Sistema de Litografía por láser DWL 2000 GS / DWL 4000 GSLA HERRAMIENTA DE LITOGRAFÍA EN ESCALA DE GRISES A NIVEL INDUSTRIAL.
Los sistemas de litografía láser DWL 2000 GS / DWL 4000 GS son generadores de patrones de alta resolución rápidos y flexibles. Están optimizados para la litografía en escala de grises a nivel industrial y diseñados para el patronaje de alto rendimiento de máscaras y obleas para circuitos integrados, MEMS, dispositivos microópticos y microfluídicos, sensores, hologramas y elementos de seguridad en billetes y tarjetas de identificación.
El modo de litografía profesional en escala de grises permite el estampado de complejas estructuras 2,5D en fotorresistencia gruesa sobre grandes áreas. Con un tamaño mínimo de rasgo de 500 nm, un área de escritura de hasta 400 x 400 mm2 y un sistema de carga automática opcional, los sistemas DWL 2000 GS / DWL 4000 GS son especialmente adecuados para la microóptica a nivel de oblea utilizada para las telecomunicaciones, la iluminación y la fabricación de pantallas industriales, así como para la fabricación de dispositivos en ciencias de la vida.
