PECVD Systems
NPE-4000 Deposición de películas delgadas de alta calidad
Deposición de películas delgadas de alta calidad
Los sistemas PECVD de NANO-MASTER permiten la deposición controlada de SiO₂, Si₃N₄, CNT, DLC o SiC con una calidad excepcional. Según la aplicación, pueden utilizarse fuentes de plasma de RF, cátodo hueco, ICP o microondas.
La platina admite obleas de hasta 8″, con posibilidad de polarización mediante RF, CC pulsada o CC continua, alcanzando temperaturas de hasta 800 °C gracias a calentamiento resistivo o por lámparas IR. La cámara opera en un rango de presión de 5×10⁻⁷ Torr, soportada por un sistema de bombeo de alta eficiencia. Todo el proceso se controla de forma automatizada mediante PC LabVIEW.
Características principales
- Fuentes de plasma múltiples: RF, cátodo hueco, ICP o microondas, adaptadas a cada aplicación.
- Calentamiento de platina hasta 800 °C, resistivo o con lámparas IR.
- Compatibilidad con obleas de hasta 8″.
- Presión de operación ultrabaja: 5×10⁻⁷ Torr, con bomba turbomolecular de 250 l/s respaldada por bomba mecánica.
- Automatización completa mediante control PC LabVIEW.
Aplicaciones
- Encapsulación e aislamiento.
- Estructuras fotónicas avanzadas.
- Recubrimiento de DLC.
- CNT para dispositivos de memoria.
- Capa de pasivación en células solares.
- Grafeno para electrónica a escala nanométrica.
