Ion Beam Milling Systems

NIE-4000

Fresado y grabado con precisión extrema

Los sistemas de fresado y grabado por haz de iones NANO-MASTER son totalmente automatizados y ofrecen alta reproducibilidad, confiabilidad y uniformidad sobresaliente. Gracias a sus múltiples configuraciones de portamuestras y fuentes de iones, permiten llevar a cabo una gran variedad de aplicaciones, desde la planarización de superficies hasta el grabado de materiales complejos.

Los portamuestras incluyen capacidades de inclinación (±90°), rotación y control térmico avanzado (refrigeración por agua, LN, helio o calentamiento integrado). Esto garantiza condiciones óptimas para aplicaciones sensibles a la temperatura o procesos que requieren superar los 150 °C para incrementar la velocidad de grabado.

La rotación junto con el desplazamiento del eje del haz permite un perfil radial más uniforme, optimizando la calidad del grabado.

Opciones

Flexibilidad para procesos avanzados

  • Detección espectroscópica del punto final
    Asegura precisión en la terminación del grabado.

  • Refrigeración trasera por helio
    Control térmico eficiente para aplicaciones sensibles.

  • Cámara cúbica de acero inoxidable electropulido (20″)
    Estructura robusta y limpia para procesos exigentes.

  • Bloqueo de carga con carga/descarga automática
    Flujo de trabajo automatizado que mejora la productividad.

  • Bomba turbo molecular de 1200 l/s (10⁻⁸ Torr)
    Alto rendimiento en condiciones de vacío extremo.

  • Paquete de bombeo criogénico
    Optimiza el control de gases residuales en la cámara.

  • Fuente de pulverización catódica
    Deposita capas de pasivación para proteger la superficie grabada de la oxidación.

  • Fuentes RF ICP con rejilla y eH End-Hall
    Ofrecen grabado de alta selectividad y limpieza superficial de haces de alta corriente y baja energía.

Aplicaciones

Versatilidad en múltiples sectores

  • Fresado con argón para planarización

  • Componentes fotónicos III-V

  • Rejillas láser

  • Grabado de cristales fotónicos de alta relación de aspecto

  • Zanjas profundas en SiO₂, Si y metales