Los equipos que disponemos para esta fase dependiendo de la técnica que se utilice son los siguientes:
MBE
ALD
PA-MOCVD
MW-PECVD
Sistemas Híbridos
Para ampliar información: info@irida.es
- Caracterización
- Litografía
- Semiconductores
- Salas blancas
- Consumibles
- Contacto
- Caracterización
- - Microscopios de Fuerza Atómica AFM
- - Elipsometría
- - XPS
- - Espectroscopia Auger
- - Perfilometría
- - TOF-SIMS
- - Difracción Rayos X
- - Microscopía Electrónica
- - Plataforma de de terahercios para materiales, películas finas y 2D
- Litografía
- - Litografía directa por láser
- - - Escritor láser directo de sobremesa µMLA
- - - Escritor láser directo I+D MLA150
- - - MLA 300 Maskless Aligner
- - - VPG 300 DI Maskless i-liner
- - - Escritor de Máscaras para semiconductores – Sistema ULTRA
- - - Generador de Patrones de Volumen – VPG+ 200 / VPG+400
- - - Generador de Patrones de Volumen – VPG+ 800 / VPG+1400
- - Litografía por electrones
- - Litografía 2.5D y 3D
- - Termolitografía Litografía de sonda térmica
- - Litografía directa por láser
- Semiconductores
- - Deposición – Coating
- - Crecimiento
- - Sistemas Híbridos
- - Procesamiento
- - Limpieza
- - Etching (grabado)
- - Tratamiento Térmico
- - Pulido y Lapeado
- - Unión de obleas – Bonding
- - Back End
- - - Sistemas de soldadura Back-End
- - - inCiTe™ 3D X-ray Microscope
- - - Corte y serrado
- - - Sistemas de soldadura por reflujo
- - - Sistema de suministro de productos químicos
- - - Gestión de residuos químicos
- - - Sistemas de premezcla
- - - Producción de agua desionizada
- - - Gestión de residuos de obleas
- Salas blancas
- Consumibles
- Contacto
- Caracterización
- Litografía
- Semiconductores
- Salas blancas
- Consumibles
- Contacto
Home / Crecimiento