El NRE-4000 es un sistema autónomo de grabado iónico reactivo (RIE) con distribución de gas por ducha y platina RF refrigerada por agua. Tiene un armario de acero inoxidable y una cámara cilíndrica de aluminio de 13″ que se abre desde arriba para cargar las obleas. La cámara tiene dos puertos, uno con una ventana de 2″ y el otro con un espacio en blanco para la detección del punto final y para otros diagnósticos. Puede aceptar obleas de hasta 12″ (300 mm). La cámara tiene un diseño extremadamente limpio y alcanza una presión base de 10-6 Torr o inferior dependiendo del paquete de bombeo. Puede funcionar en el rango de presión de 20 mTorr a 8 Torr. El paquete de bombeo consta de una válvula de mariposa, una bomba turbomolecular corrosiva de 250 l/seg, un filtro tamiz y una bomba mecánica de 10cfm con aceite fomblin. La potencia de RF la proporciona una fuente de alimentación de 600 W y 13,5 MHz, y un sintonizador automático. La polarización de CC propia se controla continuamente y alcanza hasta -500 V, lo que es importante para el grabado anisotrópico. El sistema está completamente automatizado y controlado por PC. La presión del sistema en tiempo real y la polarización de CC se muestran en formato gráfico, mientras que el caudal y la potencia se muestran en formato alfanumérico. Los cuatro niveles de autorización (Auto, Ingeniería, Proceso y Mantenimiento) impiden el uso no autorizado del sistema, al tiempo que ofrecen al usuario la máxima flexibilidad para configurar recetas en modo Proceso y ejecutarlas en modo Auto con alta reproducibilidad.

OPCIONES

Fuente de plasma ICP de alta densidad para grabado de alta velocidad
Fuente de plasma para grabado isotrópico
Enfriamiento posterior con pinza mecánica para DRIE
MFC adicionales
Carga/descarga automática
Enfriamiento del sustrato hasta -20°C y calentamiento hasta 200°C
Detector espectroscópico de punto final
Mandril electrostático
Cámara de obleas de 12

APLICACIONES

Semiconductores compuestos
Sensor de GaAs
Fotónica
Fabricación de dispositivos MEMS
Zanjas profundas en el grabado de silicio
Corte en cubos con plasma para empaquetado avanzado
Grabado Visa para la fabricación de TSV
Sensores de movimiento de alta precisión
Grabado a escala nanométrica y microfluidos

 

Para ampliar información: info@irida.es