NLP-4000 es un sistema híbrido autónomo PECVD/PEALD para realizar deposición de capas atómicas mejorada por plasma (PEALD) así como deposición química en fase vapor mejorada por plasma (PECVD). Ambos procesos pueden realizarse en una única cámara sin necesidad de reconfiguración mecánica. También es capaz de depositar una pila de capas de PEALD/PECVD en el mismo proceso. Cumple las normas CE y SEMI y puede procesar obleas de hasta 8″. El sistema se controla con el software LabVIEW y cuenta con autorización de usuario controlada por contraseña de tres niveles mediante un monitor de pantalla táctil. El sistema está totalmente automatizado, con enclavamiento de seguridad, basado en recetas, con indicadores de estado y pantallas gráficas y alfanuméricas.
Características
Cámara de Al niquelada de 13″ con pared de cámara calentada
Presión base de 5×10-7 Torr alcanzada con el paquete de bombeo turbo
Fuente de plasma ICP
Filtro ALD de alta superficie en la salida de la cámara
Distribución nivelada de precursores
Platina: Hasta 400°C, polarizable con RF, maneja obleas de hasta 8
Bloqueo de carga: Carga y descarga automáticas
MFC con conductos de gas electropulidos y válvulas de cierre neumáticas
Totalmente automatizada, basada en PC y controlada por recetas
Interfaz de usuario LabVIEW
Protección EMO y enclavamientos de seguridad
Aplicaciones
Metalización y Gate Stack
Transistor G-HEMT de GaN
Supercondensador
Electrónica de potencia
Barrera de permeación de gas
Aplicaciones de células solares
Para ampliar información info@irida.es
