La incorporación de dos cámaras dentro de un solo sistema, duplica con creces la capacidad del equipo manteniendo el tamaño de un solo sistema. Además los costes se reducen mediante sistemas de bombeo y suministros de energía compartidos, cuando eso sea posible. Las dos cámaras están aisladas entre sí mediante válvulas de compuerta y pueden bombearse y ventilarse individualmente. También es posible la introducción de muestra con sistemas de load lock individuales y la transferencia de cámara a cámara bajo vacío.
Cualquier combinación de dos sistemas; ALD, Sputtering, Evaporación, Evaporación por haz de electrones (E-Beam), Grabado por Haz de Iones, RIE o PECVD que se encuentran en nuestro catálogo, se pueden configurar como sistema dual. Abajo presentamos algunos ejemplos:
PECVD/ALD
PEVCD-Sputtering
PEVCD-RIE
Sputtering-RIE
E-Beam-Sputtering
Para ampliar información info@irida.es
