Litografía
Sistemas para Nanofabricación
Heidelberg Instruments es líder mundial en el desarrollo y producción de sistemas de fotolitografía de alta precisión, alineadores sin máscara y herramientas de nanofabricación.
Nuestros sistemas están instalados en instalaciones industriales y académicas de todo el mundo. Se utilizan para aplicaciones de escritura directa y producción de fotomáscaras en diversos temas que requieren micro y nanopatrones, como MEMS/NEMS, para semiconductores, computación cuántica, pantallas planas, fotónica, materiales 2D, IoT y muchos más.
Con más de 35 años de experiencia y más de 1.200 sistemas instalados en todo el mundo, Heidelberg Instruments ofrece soluciones de litografía específicamente adaptadas para satisfacer todos sus requisitos de micro y nanofabricación, por muy difíciles que sean.
Estos sistemas son:
ESTOS SISTEMAS SON ADECUADOS PARA LAS SIGUIENTES APLICACIONES:
- NANOFLUIDOS Y NANOBIOLOGÍA . DISPOSITIVOS NANOFLUÍDICOS HABILITADOS POR NANOLITOGRAFÍA EN ESCALA DE GRISES
La manipulación de volúmenes muy pequeños de líquidos en canales nanofluídicos suele ser necesaria en aplicaciones de nano y biotecnología. Estas aplicaciones pueden ir desde la secuenciación del ADN hasta la clasificación, ensamblaje y manipulación de nanopartículas, proteínas, enzimas o virus.
- DISPOSITIVOS CUÁNTICOS. UNA MEGATENDENCIA CON GRANDES EXIGENCIAS A LA LITOGRAFÍA
Las actividades de investigación y desarrollo de dispositivos cuánticos están creciendo fuertemente y a un ritmo rápido en todo el mundo. Los futuros dispositivos cuánticos prometen revolucionar la computación, la detección y la comunicación de datos. Los prototipos y las ideas para los dispositivos cuánticos son muy diversos y se basan en una gran variedad de partículas y cuasipartículas en función de sus propiedades específicas y su interacción
- MATERIALES 1D Y 2D. LITOGRAFÍA DE BAJO DAÑO CON SUPERPOSICIÓN DE ALTA PRECISIÓN EN MATERIALES SENSIBLES 1D Y 2D
Los dispositivos fabricados con materiales 1D y 2D suelen presentar una física interesante con numerosas ventajas. Sin embargo, las impurezas y los defectos pueden limitar el rendimiento de los dispositivos fabricados con dichos materiales.
- NANOELECTRÓNICA. PROTOTIPADO RÁPIDO DE DISPOSITIVOS NANOELECTRÓNICOS
La ley de Moore ha llevado las especificaciones de los transistores actuales a un nivel que a menudo está fuera del alcance de la nanolitografía de escritura directa convencional. Las tecnologías de fabricación de alto rendimiento, como los sistemas de multiperforación EUV o DUV, son demasiado caras para la exploración eficiente de nuevos materiales y diseños prometedores necesarios para los chips de próxima generación, especialmente para los dispositivos «más allá de Moore». Se necesitan y se buscan métodos alternativos de creación rápida de prototipos para el desarrollo de estos novedosos dispositivos nanoelectrónicos.
- CIENCIA DE LOS MATERIALES. LITOGRAFÍA PARA NUEVOS MATERIALES
A medida que las dimensiones del patrón y del dispositivo se reducen, las propiedades del material cambian en función del tamaño y la forma. La litografía de escritura directa es una técnica muy flexible para modificar y dar forma a los materiales a nano y microescala con el fin de estudiar y controlar una gran cantidad de propiedades físicas.
La litografía láser de escritura directa puede utilizarse para crear patrones, estructuras y texturas a microescala, así como contactos para dispositivos electrónicos y mediciones. La litografía de sonda de barrido térmico puede utilizarse de forma similar en la nanoescala, con la capacidad añadida de poder iniciar directamente diversas modificaciones del material mediante el calentamiento local. Además, se pueden alcanzar algunos estados de la materia que no son accesibles macroscópicamente gracias al calentamiento y enfriamiento ultrarrápidos y a la alta presión local que se puede aplicar con la punta calentada a nanoescala del NanoFrazor.
