Como proveedor de equipos desde hace muchos años, Vistec Electron Beam GmbH proporciona soluciones tecnológicas líderes para la litografía avanzada por haz de electrones. Basados en el principio de haz de forma variable (VSB), los sistemas de litografía por haz de electrones se utilizan principalmente para aplicaciones de semiconductores e investigación avanzada como escritura directa de silicio, semiconductores compuestos, fabricación de máscaras, así como óptica y fotónica integradas.
VISTEC SB254
El sistema de litografía por haz de electrones Vistec SB254 ha sido diseñado como una herramienta universal y rentable tanto para aplicaciones de escritura directa como de fabricación de máscaras, para permitir a los clientes reaccionar rápidamente a las demandas del mercado.
Con su rango de recorrido de la platina de 210 x 210 mm, es la herramienta ideal para exponer máscaras de hasta 7 pulgadas y obleas de hasta 200 mm de diámetro.
TECNOLOGÍA INNOVADORA
El concepto del SB254 permite manipular y exponer materiales semiconductores compuestos transparentes y no transparentes. La arquitectura modular del sistema permite actualizar fácilmente su SB254 a una herramienta de mayor rendimiento.
El reducido espacio que ocupa en la sala blanca y la manipulación totalmente automatizada de sustratos, así como el avanzado software de funcionamiento y preparación de datos, le convencerán de la excelencia del SB254 como parte del conjunto de herramientas modulares que Vistec ofrece a sus clientes del sector industrial y de la investigación aplicada.Los probados modos de escritura VSB (Variable Shaped Beam), «Write-on-the-fly» y Vector Scan, así como la columna de haz conformado de 50 keV, son otros de los aspectos destacados del SB254.
CARACTERÍSTICAS PRINCIPALES
Para satisfacer los requisitos específicos de nuestros clientes, las siguientes características están disponibles opcionalmente:
Diversos tamaños y tipos de sustratos con manipulación de sustratos totalmente automatizada, incluida la prealineación de sustratos.
Escritura multipase
MDSP (paquete de software de detección de marcas) incl. medición del campo de imagen
Estación de preparación de datos de trazado que abarca hasta 256 núcleos de CPU para:
fracturación
además de opciones adicionales de corrección del efecto de proximidad (PROXECCO) y corrección de la niebla
Interfaz gráfica de usuario (GUI) conforme a SEMI E95
Vistec SB254 Esta grabadora de haz de electrones representa el desarrollo evolutivo de la exitosa y probada serie Vistec SB250. El Vistec SB254 con opción de proyección de célula para uso combinado con el principio VSB permite una mejora adicional del rendimiento y una resolución inferior a 20 nm (HSQ).
VISTEC SB3050-2
El equipo Vistec SB3050-2 es el sistema de litografía por haz de electrones más avanzado de la actualidad, con tecnología de haz de forma variable y plena capacidad de escritura en sustratos de máscara u oblea de hasta 300 mm de dimensión. Esta gran flexibilidad da acceso a una amplia gama de aplicaciones en I+D, creación de prototipos y producción de pequeños volúmenes.
TECNOLOGÍA INNOVADORA
Las eficientes estrategias de escritura y la óptica electrónica de haz de forma variable permiten una exposición rápida y una alta resolución simultáneamente. La función de proyección celular mejora el rendimiento y la fidelidad del patrón de estructuras repetitivas o curvilíneas.
Gracias a la interfaz gráfica de usuario (GUI) compatible con la producción, la Vistec SB3050-2 puede integrarse fácilmente en entornos de producción automatizados (CIM). Al ser capaces de exponer tanto máscaras (incluidas plantillas) como obleas, las herramientas de exposición SB3050-2 son el puente ideal hacia los nodos tecnológicos de próxima generación.
AUTOMATIZACIÓN
El Vistec SB3050-2 combina la manipulación, el ajuste y la alineación de sustratos totalmente automatizados más avanzados con un sistema de platina de alta precisión y una sofisticada columna óptico-electrónica de 50 keV desarrollada específicamente para garantizar un excelente rendimiento de resolución. El sistema de litografía es compatible con entornos de producción de semiconductores y está preparado para la supervisión y el control remotos de acuerdo con las normas de automatización de equipos SEMI.
CARACTERÍSTICAS PRINCIPALES
Tamaños de sustrato: Obleas de 2″ a 300 mm, máscaras de 5″ a 9
Óptica electrónica: Haz de forma variable / 50kV / Proyección de célula (opcional)
Manipulación de sustratos: Manipulación totalmente automatizada mediante SMIF / FOUP pod
Estrategia de escritura: Exposición con platina en movimiento continuo, barrido vectorial, exposiciones multipase
Preparación de datos: Software dedicado ePLACE para resultados de exposición optimizados, incl. fracturación, corrección de procesos, simulación y visualización
Tamaño de la sala limpia: < 30 m² (SB3050-2 incl. área de servicio)
Para ampliar información: info@irida.es
