• Sistemas de lapeado de precisión DL

Los sistemas de lapeado de alta velocidad DL de Logitech procesan materiales con gran precisión geométrica. La gama de capacidades de los sistemas DL los hace ideales para pequeños laboratorios de investigación hasta entornos de producción. El DL también tiene la capacidad de procesar múltiples muestras pequeñas con el uso de plantillas y mandriles personalizados de Logitech. Disponibles con una sola estación de trabajo (DL1) o con cuatro estaciones de trabajo (DL4), estas versátiles máquinas de lapeado son capaces de lapear muestras de hasta 200mm/8″.

Los sistemas de lapeado de precisión DL son químicamente resistentes a los productos químicos estándar utilizados en las aplicaciones CMP, incluido el hipoclorito de sodio (Na OCL).

DL44

El Logitech DL44 es ideal para la preparación de secciones finas geológicas y ultrafinas de gran volumen. Con cuatro estaciones de trabajo, el DL44 tiene capacidad para procesar hasta 56 secciones finas estándar a la vez. Junto con su tecnología de cabezal accionado, que permite procesos más rápidos, este sistema es ideal para entornos de producción.

Con la opción de una placa adicional y las plantillas Logitech VCB7, el DL44 también puede utilizarse para el pulido de secciones finas en la fase final.

  • Los sistemas de pulido de precisión DP de Logitech se desarrollaron para resolver el problema de los tiempos de pulido al procesar materiales semiconductores que a menudo se describen como «difíciles» de pulir en la industria. Estos sistemas se han diseñado para el pulido semiautomático de la fase final de materiales duros como el zafiro, el carburo de silicio (SiC) o el nitruro de galio (GaN). Disponibles en una o cuatro estaciones de trabajo, los sistemas de pulido de precisión DP pueden procesar materiales de hasta 300 mm (o múltiples muestras más pequeñas) en el DP1 y 260 mm por estación de trabajo (o múltiples muestras más pequeñas) en el DP4. Los sistemas DP cuentan con cabezales de pulido especiales que aplican altos niveles de fuerza descendente por cabezal sobre las muestras, mientras que la velocidad y la dirección de rotación son totalmente controlables. Esto da como resultado el mayor nivel de rendimiento de muestras de todos los sistemas Logitech.La capacidad de la gama de sistemas de pulido de precisión DP los hace ideales para pequeños laboratorios de investigación hasta entornos de nivel de producción.

    Los sistemas DP son químicamente resistentes a los productos químicos estándar utilizados en las aplicaciones CMP, incluido el hipoclorito de sodio (Na OCL).

    Capacidades típicas de acabado superficial:
    Zafiro: <1nm
    GaN: <1nm
    SiC: <3nm

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    Para más información: info@irida.es