MBE

Molecular Beam Epitaxy

PRODUCTOS Y SERVICIOS A TU DISPOSICIÓN

Riber es el principal fabricante mundial de sistemas MBE. Cuenta con más de 40 años de experiencia en la producción de sistemas MBE líderes en la industria, altamente fiables y rentables, y posee con diferencia la cartera más amplia de máquinas de investigación y producción. Todos los reactores MBE se construyen en una sala blanca de clase 1000 con arreglo a normas estrictas en la sede de Riber, utilizando rutinas internas metódicas para garantizar la producción de reactores excepcionalmente limpios y altamente fiables. Cada sistema MBE está garantizado para alcanzar niveles de vacío ultra-altos que permiten la producción de capas epitaxiales con una calidad de material de vanguardia.

Tanto si se trata de MBE de fuentes sólidas, MBE asistida por plasma (PAMBE), MBE metal-orgánica (MOMBE), MBE de fuente gaseosa (GSMBE) o epitaxia de haz químico (CBE) totalmente gaseosa, Riber tiene una solución para su proceso.

Modelos de Sistemas MBE

Compact 21 – Sistema de investigación 3″

  • El sistema comercial MBE de 3″ más exitoso del mundo.
  • Compatible con múltiples configuraciones (III-V, II-VI, Gp IV, óxidos, metales, GSMBE).
  • Hasta 12 puertos de fuente y compatibilidad con pistolas electrónicas.
  • Transferencia de muestras manual o totalmente automática.

MBE 412 – Sistema piloto de producción 4″

  • Orientado a proyectos aplicados con socios industriales.
  • Capacidad para oblea de 4″ o 3×2″.
  • Flexibilidad de 12 puertos de origen.
  • Transferencia de muestras totalmente automática.
  • Ideal para demostración de dispositivos y producción piloto.

MBE 49 – Sistema de producción 3″, 4″, 150 mm y 200 mm

  • Más de 55 sistemas instalados en todo el mundo.
  • Diseñado para arseniuros, fosfuros, nitruros y óxidos.
  • Control in-situ y tratamiento previo al crecimiento.
  • Capacidad: 5×3″, 4×4″, 150 mm y 200 mm.
  • Estándar de la industria en calidad, rendimiento y coste de operación.

MBE 6000 – Sistema de producción multi-oblea

  • El referente en MBE de alto rendimiento y reproducibilidad.
  • Capaz de operar con multi 3″, 4″, 6″ y 200 mm.
  • Campañas de más de 1 año continuo, probando su estabilidad.
  • Usado en producción masiva: P-HEMT, microondas y optoelectrónica.
  • Muchas fábricas operan con 2 a 8 sistemas en paralelo 24/7.

MBE 8000 – Sistema de producción avanzada

  • Sistema de fuente sólida 8×6″ o 4×8″.
  • Crecimiento de lotes de 8 obleas de 150 mm o 4 de 200 mm.
  • Uniformidades excepcionales en composición y grosor.
  • Niveles muy bajos de defectos, validado para VCSEL 940 nm.
  • Evaluado en 2023: proceso, estabilidad, ergonomía y control.

Pasivación láser de alta productividad

La pasivación de superficies es un paso importante en el procesamiento de semiconductores. Por ejemplo, en la fabricación de diodos láser, evita posibles daños o incluso la destrucción del láser. Para proteger las superficies o facetas pueden utilizarse distintos métodos de recubrimiento: ZnSe, SiN, óxidos. Nuestro reactor CPS está diseñado para proporcionar una pasivación eficaz basada en unas condiciones de proceso estrictas que garanticen la estabilidad, la reproducibilidad y el control del recubrimiento.

Reactor CPS