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PLASMA CLEANER
Los sistemas de limpieza de plasma son diseñados para la limpieza de paquetes microelectrónicos plásticos y marcos de plomo así como tableros de circuito de LCD y otros productos. Las soluciones de Samco incluyen sistemas compactos para R&D y producción piloto, así como sistemas de limpieza de plasma de cámara grande.
- Limpiadores de Plasma (Tratamiento Directo de Plasma)
Tres Modos de Proceso Diferentes
(RIE, Plasma y Modos Downstream)
- Limpiadores de Plasma (Tratamiento Directo de Plasma)
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Procesamiento totalmente automatizado
Fácil manejo con panel táctil
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- Limpiadores de Plasma de Fuente Remota (Plasma descendente)
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Fuente de Plasma Remota para Limpieza Suave de Superficies
de Leadframes y Envases de Plástico
Procesamiento totalmente automatizado
Fácil manejo con panel táctil
Tabletop Plasma Cleaners
La limpieza por plasma es uno de los métodos populares para la limpieza de superficies de sustratos en la investigación de materiales y fabricación de dispositivos.
Los limpiadores de plasma de Samco pueden ser utilizados para R&D y producción.
Nuestros limpiadores de plasma de sobremesa ocupan poco espacio y son capaces de procesar lotes de muestras / obleas utilizando múltiples estantes.
El limpiador de plasma basado en H2O ofrece soluciones de proceso únicas de tratamiento/adhesión de superficie de polímero y limpieza de electrodo de cobre/plata.
Nuestros limpiadores de plasma de cámara grande o revista a revista son adecuados para el proceso de limpieza final en la fabricación de dispositivos.
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Tabletop Plasma Cleaners
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Los PC-300 y PC-1100 son sistemas de limpieza por plasma de sobremesa que utilizan plasma directo de placas paralelas.
Los sistemas pueden utilizarse para limpiar la contaminación orgánica e inorgánica de la superficie de muestras como envases de plástico, sustratos LCD, módulos multichip y circuitos integrados híbridos. Otras aplicaciones son la limpieza de fotorresistencias, la eliminación de tintas, la activación de superficies y la mejora de la humectabilidad.
Los modelos PC-300 y PC-1100 son sistemas totalmente automáticos con panel táctil. La cámara de proceso permite al usuario instalar múltiples estantes de muestras, y el alto grado de flexibilidad en la configuración admite el procesamiento por lotes de un amplio grado de productos, desde pequeños componentes electrónicos hasta sustratos de mayor tamaño.
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Limpiador de plasma a base de H2O
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El AQ-2000 es un limpiador de plasma especialmente diseñado para el tratamiento Aqua Plasma que utiliza H2O como gas de proceso.
El sistema es capaz de tratar y unir superficies de polímeros para la fabricación de microfluidos. Además, el sistema ofrece limpieza de superficies metálicas sin oxidación superficial ni redeposición, que son retos típicos del proceso en el tratamiento convencional con plasma de O2 o Ar. Este proceso único es adecuado para la limpieza de electrodos y leadframes de cobre/plata en envases de microelectrónica.
El sistema está equipado con múltiples estantes para el procesamiento de plasma por lotes, y es capaz de tratar con plasma muestras de varios tamaños y números.
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REMOTE PLASMA CLEANER
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Los limpiadores de plasma de fuente remota samco-ucp satisfacen diversos tipos de necesidades de proceso en la producción de dispositivos.
Las aplicaciones típicas incluyen
– Limpieza de leadframes metálicos, paquetes microelectrónicos de plástico, paquetes MEMS o microópticos, módulos híbridos o multichip, así como obleas.
– Tratamiento de superficies utilizado, por ejemplo, antes de la fijación de troqueles, la unión de cables o el moldeo para mejorar el pegado, la adhesión o el encapsulado.
– Activación óptima de la superficie y eliminación química suave, por ejemplo, de óxidos y compuestos orgánicos mediante gases de proceso y mezclas de Ar, N2 y H2.
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Carga abierta Fuente Remota Limpiador de plasma
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El LFC150 es un sistema de carga manual por lotes diseñado para la limpieza superficial de varios tipos de envases con marco de plomo alojados normalmente en almacenes. Este sistema posee una gran cámara de proceso (D.I. 630 mm, altura 170 mm) para el procesamiento por lotes con plasma, y funciona con una fuente de plasma de CC remota generada por un filamento caliente.
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Limpiador de plasma con fuente remota de entrada y salida del mismo cargador
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El LFC063 puede manipular varios tipos de sustratos portadores de chips de hasta 280 mm x 330 mm con un alto rendimiento. Este sistema es capaz de realizar el tratamiento con plasma con un alto rendimiento utilizando simultáneamente la (des)carga desde/hacia el cargador y el procesamiento con plasma en modo automático. El procesamiento remoto del plasma garantiza que los sustratos sensibles estén protegidos eficazmente del plasma primario de RF
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- Entrada izquierda, salida derecha Fuente remota Limpiadores de plasma
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El SuperLiner Wafer ofrece limpieza por plasma en fuente remota de sustratos de hasta Ø12″ con carga de casete. Este sistema permite la entrada y salida por la izquierda. El robot de doble brazo de última generación manipula sustratos estándar y de oblea fina.
El FlexLiner ll puede manipular sustratos de hasta 330 mm x 330 mm. El FlexLiner ll permite un funcionamiento de entrada y salida a la izquierda adecuado para la línea de producción. Una de las características exclusivas de este sistema es la manipulación cuidadosa de los sustratos con un movimiento mínimo de los mismos. Además, el control de múltiples sensores permite una detección sofisticada de los sustratos para un funcionamiento más fiable.
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LIMPIADORES UV-OZONO
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Samco ofrece múltiples limpiadores UV-Ozono para R&D y producción. Nuestros sistemas son equipados con Calefacción de Etapa y Generador de Ozono para lograr el desempeño de proceso superior comparado a limpiadores UV-Ozono convencionales.
Los limpiadores compactos de mesa de UV-ozono son útiles para la preparación de muestra en instalaciones de laboratorio de espacio limitado. Nuestros sistemas UV-ozono de carga abierta son capaces de procesar obleas de 300 mm, y las herramientas presentan ventajas de bajo daño físico por iones y carga en comparación con la limpieza general por plasma. Para los clientes de producción, hay disponibles sistemas de casete a casete.
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Limpiadores de mesa UV-Ozono
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Los modelos UV-1, UV-2 y UV-300 son limpiadores de ozono UV compactos y sencillos que se adaptan a una gran variedad de formas y tamaños de sustratos. Estos sistemas, que ocupan poco espacio, son fáciles de manejar y utilizan una combinación única de radiación ultravioleta, ozono y calor para eliminar de forma suave pero eficaz los materiales orgánicos de diversos sustratos, como silicio, GaAs, zafiro, metales, cerámica, cuarzo y vidrio.
Los sistemas son idóneos para diversas aplicaciones, como la limpieza de sustratos, la eliminación de la espuma fotorresistente, la mejora de la humectabilidad, la modificación de superficies y el curado UV. Al funcionar a presión atmosférica, los sistemas UV-1, UV-2 y UV-300 eliminan la necesidad de un engorroso sistema de vacío de alto mantenimiento y no dañan los delicados dispositivos electrónicos
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Limpiadores de carga abierta UV-Ozone
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El UV-300H es un sistema UV-Ozono de 300 mm que incluye todas las características de los sistemas de sobremesa. Los sustratos se cargan en el sistema a través de un cajón deslizante, y la separación entre la platina y el colector de ozono se puede ajustar manualmente de 1 a 11 mm para permitir la optimización de un proceso.
Esta unidad de alto rendimiento proporciona velocidades de incineración de fotorresistencias de hasta 500 nm/min, e incluye numerosas funciones de seguridad para proteger al operario y al sistema. La UV-300H funciona a presión atmosférica y no requiere un sistema de vacío independiente.
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Limpiadores de UV-Ozone Atmospheric Cassette
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A medida que aumentan las necesidades de producción, la UV-300HC es un sistema de casetes totalmente automatizado que incluye una cámara UV-Ozone con una platina de 280 mm, un robot atmosférico y dos casetes. Los casetes pueden configurarse para una oblea de hasta 200 mm o para funcionamiento por lotes mediante bandejas. Al igual que la UV-300H, la distancia entre la platina y el colector de ozono puede ajustarse manualmente de 1 a 11 mm para optimizar el proceso.
Las opciones incluyen una etapa de enfriamiento y calentamiento para aumentar el rendimiento.
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Basic Plasma Research Kit
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El BP-1 es un sistema básico de investigación de plasma que está destinado a ser utilizado para experimentos de diversas películas delgadas utilizando reacciones químicas de plasma, y es el sistema ideal para enseñar a los estudiantes las bases fundamentales de la física del plasma.
El sistema cuenta con una cámara de reacción con electrodo de placa paralela que puede procesar muestras de hasta 100 mm. La distancia entre electrodos puede ajustarse manualmente entre 10 y 40 mm.
El BP-1 se ha utilizado para polimerización por plasma, modificación de superficies, grabado en seco y deposición de películas finas. Sin embargo, como se trata de un sistema totalmente manual con mecanismos de seguridad mínimos, se recomienda generalmente para usuarios avanzados que de otro modo considerarían un sistema de plasma «casero», o para estudios cinéticos del proceso de plasma utilizando gases inertes.
Recomendamos encarecidamente que los posibles compradores también consideren sistemas más avanzados para grabado o deposición.
El sistema estándar incluye:
Válvula de mariposa manual para el control de la presión
2 rotámetros para gases
Generador de RF de 200 W y red de adaptación manual
Bomba rotativa de base mineral
Las opciones incluyen calentamiento por etapas hasta 400°C.
La limpieza con plasma es uno de los métodos más utilizados para limpiar la superficie de los sustratos en la investigación de materiales y la fabricación de dispositivos.
Los limpiadores de plasma de Samco se pueden utilizar tanto para I + D como para producción.
Nuestros limpiadores de plasma de mesa ocupan poco espacio y son capaces de procesar lotes de muestras/ obleas utilizando múltiples estantes.
El limpiador de plasma basado en H2O ofrece soluciones de proceso únicas de tratamiento/adhesión de superficies de polímeros y limpieza de electrodos de cobre/plata.
Nuestros limpiadores de plasma de cámara grande o de cargador a cargador son adecuados para el proceso de limpieza final en la fabricación de dispositivos.
Limpiadoras de plasma de sobremesa
La PC-300 y PC-1100 son sistemas de limpieza por plasma de sobremesa que utilizan plasma directo de placas paralelas.
Los sistemas pueden utilizarse para limpiar la contaminación orgánica e inorgánica de la superficie de muestras como envases de plástico, sustratos LCD, módulos multichip y circuitos integrados híbridos. Otras aplicaciones son la limpieza de fotorresistencias, la eliminación de tintas, la activación de superficies y la mejora de la humectabilidad.
El PC-300 y el PC-1100 son sistemas totalmente automáticos con panel táctil. La cámara de proceso permite al usuario instalar múltiples estantes de muestras, y el alto grado de flexibilidad en la configuración admite el procesamiento por lotes de un amplio grado de productos, desde pequeños componentes electrónicos hasta sustratos de mayor tamaño.
Limpiador de plasma a base de H2O
El AQ-2000 es un limpiador de plasma especialmente diseñado para el tratamiento Aqua Plasma que utiliza H2O como gas de proceso.
El sistema es capaz de tratar y unir superficies de polímeros para la fabricación de microfluidos. Además, el sistema permite limpiar las superficies metálicas sin oxidación ni redeposición, que son problemas típicos de los procesos convencionales de tratamiento con plasma de O2 o Ar. El proceso único es adecuado para limpieza de electrodos y leadframes de cobre/plata< en envases de microelectrónica.
El sistema está equipado con múltiples estantes para el procesamiento de plasma por lotes, y es capaz de tratar con plasma muestras de diversos tamaños y números.
