Etching
Soluciones de Grabado Avanzado
Precisión en la eliminación de material
El grabado (etching) es un proceso clave en el mecanizado químico y en la fabricación de dispositivos de alta tecnología. Mediante una máscara protectora y la exposición a soluciones químicas o técnicas avanzadas, se logra la eliminación selectiva de material para crear patrones precisos en la superficie.
En nuestra propuesta ofrecemos sistemas de grabado de última generación, combinando tecnología avanzada, fabricación a medida y un servicio de alta calidad, adaptándonos a las necesidades específicas de cada cliente.
Sistemas Disponibles
Grabado iónico reactivo para patrones definidos con alta precisión.
Sistemas de grabado de iones acoplados inductivamente, incluyendo grabado profundo (DRIE) para estructuras complejas.
Grabado por haz de iones para aplicaciones de máxima exactitud y control.
Tecnologías de Grabado
Procesos y capacidades principales
Sistemas de doble cámara
Mayor versatilidad y eficiencia en el grabado.Manipulación robótica
Automatización para máxima precisión y repetibilidad.Sistemas de ensayo para simulación espacial
Ideal para pruebas avanzadas en condiciones extremas.Grabado por haz de iones
Solución de alta precisión para aplicaciones complejas.