Limpieza de Fotoresinas
Plasma Ashing Systems
Sistemas de decapado y limpieza por plasma
Los sistemas de Plasma Ashing de NANO-MASTER están diseñados para cubrir desde el decapado de resistencias en obleas hasta la modificación de superficies en distintos sustratos. Estos equipos ofrecen control por PC, múltiples fuentes de plasma y soportes de sustrato tanto calentados como no calentados, con la capacidad única de alternar entre grabado por plasma y grabado RIE según la necesidad del proceso.
Aplicaciones principales
- Retraso en el análisis de fallos
- Eliminación de materiales orgánicos e inorgánicos sin residuos
- Eliminación de fotoresistencias
- Desmearing y etch back
- Limpieza de microelectrónica, agujeros en PCBs o marcos de plomo de Cu
- Fomento de la adherencia y resolución de problemas de unión
- Modificación de superficies plásticas (tratamiento O₂ para pintura)
- Producción de superficies hidrófilas o hidrófobas