Limpieza en húmedo
Los limpiadores megasónicos de obleas y máscaras NANO-MASTER proporcionan una limpieza megasónica reproducible, uniforme y de última generación. Incorporamos la limpieza megasónica patentada sin daños, la limpieza química, la limpieza con cepillo y el secado en un solo paso del proceso.
Para lograr la máxima optimización de la limpieza sin dañar el sustrato, la densidad de energía megasónica debe mantenerse ligeramente por debajo del umbral de daño en cualquier punto de la muestra. La tecnología patentada de NANO-MASTER asegura una distribución uniforme de la energía acústica por toda la superficie del sustrato, permitiendo una limpieza ideal al maximizar la energía distribuida mientras se mantiene por debajo del umbral de daño de la muestra.
Dependiendo de la aplicación, ciertas opciones mejorarán aún más la capacidad de la herramienta para eliminar partículas y residuos no deseados.
Limpieza Húmeda para obleas individuales
Los limpiadores de obleas individuales (SWC) de NANO-MASTER se centran en proporcionar la mejor capacidad de limpieza posible manteniendo la asequibilidad. Un sistema estándar cuenta con una boquilla megasónica para agua desionizada, dispensadores de productos químicos independientes, secado de anuncios realizado por hilado a alta velocidad, una lámpara de infrarrojos y nitrógeno soplado. Nuestros sistemas mueven el brazo dispensador mediante un movimiento patentado que garantiza que la energía megasónica y los productos químicos se dispersen uniformemente por el sustrato. En función de la aplicación, pueden añadirse otras opciones, como un cepillo de PVA, inyección de CO2 o ionización de nitrógeno, para mejorar aún más la capacidad de limpieza de la herramienta.
Un sistema estándar está configurado con limpieza, limpieza química, limpieza con cepillo, centrifugado a altas RPM con calentamiento IR y flujo de N2. El movimiento patentado de la boquilla megasónica garantiza un suministro uniforme de energía megasónica; por lo tanto, en cualquier punto de la superficie, la energía suministrada puede mantenerse por debajo del umbral de daño. Disponemos de estos sistemas:
Aplicaciones :
Retícula Peliculada y No Peliculada
El LSC-5000 es el último limpiador de retículas de NANO-MASTER con tecnología y funcionalidad de última generación. Con carga/descarga robótica automática de la retícula, el LSC-5000 automatiza completamente el proceso de limpieza permitiendo una limpieza precisa, uniforme y repetible.
La LSC-5000 es capaz de limpiar tanto la cara posterior como las marcas de alineación de la cara anterior de las máscaras peliculizadas, reduciendo la necesidad de retirar y repelicular innecesariamente estas máscaras. La limpieza masónica y el secado por centrifugado de toda la superficie frontal de la máscara peliculada se realizan sin daños ni condensación de filtraciones en la película. También es capaz de eliminar el adhesivo de montaje del marco de la película y preparar las superficies para la repeliculación.
Aplicaciones
– Retículas no peliculizadas – Máscaras de contacto
