Sistemas predefinidos para procesos estándar como limpieza de máscaras despegue de metal, limpieza posterior a CMP y fregadoras o herramientas personalizadas.

Diseñados para su uso en aplicaciones
WET CLEANING, ETCHING, POST CMP CLEAN Y METAL LIFT-OFF

CHEMIXX CL30pm

(Ø300mm) Wet cleaning system with
DI-Chamber rinse (optional).

CHEMIXX CMP30pm
(Ø300mm) Wet cleaning system for cleaning of dry and wet wafers after CMP.

CHEMIXX E 30 MASK
(9×9 inch) Photomask cleaning system.