Sistemas predefinidos para procesos estándar como limpieza de máscaras despegue de metal, limpieza posterior a CMP y fregadoras o herramientas personalizadas.
Diseñados para su uso en aplicaciones
WET CLEANING, ETCHING, POST CMP CLEAN Y METAL LIFT-OFF
CHEMIXX CL30pm
(Ø300mm) Wet cleaning system with
DI-Chamber rinse (optional).
CHEMIXX CMP30pm
(Ø300mm) Wet cleaning system for cleaning of dry and wet wafers after CMP.
CHEMIXX E 30 MASK
(9×9 inch) Photomask cleaning system.
