PHI Genesis

Microsonda XPS/HAXPES multitécnica

El sistema más avanzado y automatizado del mercado

PHI Genesis representa la nueva generación en análisis de superficies mediante XPS y HAXPES. Su tecnología combina microsonda XPS de barrido, automatización total, perfilado de profundidad optimizado y capacidades multitécnicas en una única plataforma de laboratorio, ofreciendo una alternativa real a las instalaciones sincrotrón.

Un instrumento versátil, modular y personalizable.

Admite múltiples fuentes de excitación, sputtering por iones, y herramientas de análisis complementario, permitiendo una caracterización avanzada en investigación y control de calidad.

Automatización total y navegación avanzada

Precisión sin intervención manual

Análisis superior de películas delgadas

Caracterización completa desde la superficie hasta capas profundas

Capacidad de HAXPES en laboratorio

Fuente de rayos X de Cr para HAXPES

Proporciona una profundidad analítica 3 veces mayor que el XPS estándar.

Ideal para estructuras enterradas o multicapas complejas

Minimiza los efectos de la contaminación superficial y el daño químico.

Conjunto de soluciones

Más allá del XPS: análisis electrónico y electroquímico