Escritor de Máscaras para semiconductores – Sistema ULTRA
DISEÑADO PARA PRODUCIR FOTOMÁSCARAS SEMICONDUCTORAS DESARROLLADAS
El sistema ULTRA, es un equipo de grabado de máscaras láser calificada específicamente para fotomáscaras semiconductoras maduras. Las fotomáscaras de semiconductores se utilizan para fabricar dispositivos electrónicos como microcontroladores, gestión de energía, LED, Internet de las cosas (IoT) y MEMS.
La ULTRA es una solución económica de escritura de máscaras con todas las características y funcionalidades necesarias para un alto rendimiento, precisión y uniformidad de la estructura, y una alineación extremadamente precisa. La configuración estándar incluye todos los módulos (modo FX Fast, SMIF Pod, etc). La ULTRA puede producir tamaños de estructura de hasta 500 nm a velocidades de escritura de hasta 580 mm2 por minuto, al tiempo que presenta una excelente uniformidad de las dimensiones críticas, calidad de imagen, superposición y registro. La ULTRA es un sistema compacto y se adapta fácilmente a la infraestructura existente del taller de máscaras.