Sistema NRE-4000
Los sistemas NANO-MASTER DRIE incorporan una fuente ICP planar para la generación de plasma de alta densidad. Nuestros sistemas pueden utilizarse tanto con procesos de criograbado como con procesos Bosch que pueden crear agujeros y zanjas de penetración profunda y lados pronunciados en obleas con relaciones de aspecto elevadas.
OPCIONES
Mandril electrostático con refrigeración trasera He
MFC extra con líneas de gas SS
Auto L/UL
Detector espectroscópico de punto final
APLICACIONES
Corte de obleas de silicio.
MEMS
Zanjas profundas en el grabado de silicio
Sensores de movimiento de alta precisión
Grabado a escala nanométrica
Microfluidos
Para ampliar información: info@irida.es
