Boquilla de alta presión
Boquilla megasónica o ultrasónica
Megasónico de gran superficie
Cepillo de una o dos caras

PROCESAMIENTO QUÍMICO

SPM, SC1, SC2, DHF
BHF, SiO2, grabado de metales
Productos químicos mediante charco o boquilla de pulverización

Sistemas predefinidos para procesos estándar como la limpieza de máscaras
despegue de metales, limpieza posterior a CMP y fregadores o herramientas personalizadas.

Diseñados para ser utilizados en aplicaciones
LIMPIEZA EN HÚMEDO, GRABADO, LIMPIEZA POST CMP Y LEVANTAMIENTO DE METAL

CHEMIXX CL30pm
(Ø300mm) Sistema de limpieza en húmedo con
Enjuague DI-Chamber (opcional).

CHEMIXX CMP30pm
(Ø300mm) Sistema de limpieza en húmedo para la limpieza de obleas secas y húmedas después de CMP.

MÁSCARA CHEMIXX E 30
(9×9 pulgadas) Sistema de limpieza de fotomáscaras

CHEMIXX 760
(21×21 pulgadas) Sistema de limpieza, grabado o revelado de procesamiento único con suministro de medios integrado para sustratos grandes.

CHEMIXX 1201
(Ø300mm) Sistema automático de limpieza, grabado o revelado con una cámara de proceso.

CHEMIXX 803
(Ø200mm) Sistema automático de procesamiento en húmedo
con tres cámaras de proceso