Saltar al contenido
Sin resultados
Productos
Inicio
Quiénes Somos
Noticias
Contacto
Inicio
Quiénes Somos
Productos
ALD
ALD Atomic Layer Deposition Systems
Sistemas Híbridos PECVD/PEALD
ROLL TO ROLL ALD
CVD
PECVD Sistemas
MW-PECVD Systems
MOCVD
PVD
Thermal Evaporation Systems
E-Beam Systems
Sputtering Systems
Etching (grabado)
ICP-RIE/ DRIE Systems
Ion Beam Milling Systems
Litografía
EB Lithography System
Software para litografía de alta precisión
DWL 66+ laser lithography
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS laser lithography
Thermolitografía
Caracterización
Microscopios de Fuerza Atómica AFM
Elipsometría
XPS
Espectroscopía Auger
TOF-SIMS
Espectroscopía Raman
Perfilometría Óptica
Nanoprobbing
Wet Processing
Wet Bench
Unión de obleas – Temporay Bonding
Unión de obleas – Bonding
Líquido
Limpieza de Fotoresinas
Sistemas de premezcla
Gestión de residuos químicos
Gestión de residuos de obleas
Preparación de muestras
Pulido químico CMP y pulido químico mecánico
Sistemas de Lapeado y Pulido de precisión
Herramientas de lapeado y pulido con cabezal accionado
Recubrimiento – Coatting
Recubrimiento – Coating
Capas finas (Materiales 2D, recubrimientos)
Revelado
Hot Plates
RTP – VPO
Sistemas de soldadura por reflujo
Salas blancas
Componentes
Noticias
Contacto
Buscar
Menú
Términos y Condiciones
Política de Privacidad
