SPUTTERING SYSTEMS

AJA ofrece sistemas de pulverización catódica por magnetrón para la deposición física de vapor a escala de investigación que van desde compactos (serie ATC Orion) a complejos (serie ATC Flagship), además de recubridores de lotes pequeños (serie ATC-B). Estos sistemas de sputtering pueden configurarse con orientación con-focal, de incidencia normal, fuera del eje, de ángulo oblicuo o con una combinación de orientaciones del blanco al sustrato. Las características del soporte del sustrato incluyen calentamiento radiante (1000°C), rotación azimutal, polarización RF/DC, movimiento en Z, refrigeración (H2O o LN2), inclinación o movimiento planetario.

ATC ORION SERIES SPUTTERING SYSTEMS

 

Compact Systems

  • 10″, 12″ and 14″ chamber Ø
  • HV and UHV versiones
  • 1.5″, 2″ and 3″ sputter sources
  • Substrate holders to 6″ Ø
  • Load lock
  • Substrate cassettes
  • Auto-loading
  • Computer control
  • Custom engineered versions
  • Much more than a tabletop system

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ATC FLAGSHIP SERIES SPUTTERING SYSTEMS

Flagship Systems

  • 18″ to 34″ chamber Ø
  • HV and UHV versions
  • 1″ to 8″ diameter sputter sources
  • In-situ tilt source option
  • Substrate holders to 8″ Ø
  • Load locks
  • Substrate cassettes and masking
  • Auto-loading
  • Computer control
  • Custom engineered versions

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​ ATC-B SERIES BATCH COATING SYSTEMS

Batch Coating Systems

  • Cylindrical or box style chambers
  • Load-lock & cassette options
  • Circular, triangular or linear sources
  • Integrated hoist or hinged door
  • Single, multi-layer or co-deposition
  • Configured for your application