Software para Litografía e Inspección en Nanofabricación

Software para Litografía

GenISys - Software

Soluciones de Software para Litografía e Inspección en Nanofabricación

Soluciones de software flexibles y de alto rendimiento para la optimización de la micro y nano fabricación, así como de la metrología y la inspección, para brindar a los ingenieros, fabricantes y proveedores de herramientas una eficiencia incomparable y un valor óptimo en la investigación, el desarrollo y la producción de futuras nanotecnología

Características principales de los Softwares de GenIsys

Este sistema ha sido desarrollado como una evolución de la serie SB250, incorporando funciones avanzadas que garantizan alto rendimiento, precisión y facilidad de operación.

Opciones disponibles

Preparación de datos superior para la exposición a litografía por haz de electrones y láser.

BEAMER es el software de litografía más completo para la exposición optimizada a rayos láser y electrónicos.

Plataforma de optimización de diseño y procesos para las tecnologías de litografía más comunes

LAB permite productos de próxima generación y un desarrollo más rápido mediante el diseño computacional y la optimización de procesos.

Dispersión de electrones y efectos del proceso cuantificados

TRACER es un simulador de Monte Carlo que calcula la interacción electrón-sólido de cualquier pila de material arbitraria y realiza una calibración de proceso avanzada para la corrección del efecto de proximidad del haz de electrones.

Preparación de datos de mascarillas (MDP) y corrección del proceso de mascarillas (MPC) que abordan las necesidades de mascarillas no estándar

Productividad y calidad óptimas de máscaras para pantallas planas (FPD), fotónica, IoT y dispositivos especiales.

Paquete avanzado de software de análisis de imágenes SEM, metrología y automatización

ProSEM proporciona fácilmente mediciones consistentes de características para sus tareas de calibración y monitoreo de procesos. Con interfaces digitales opcionales, se puede conectar a su SEM para la adquisición automatizada de imágenes.

Paquete de software de metrología e inspección SEM integrado y kit de actualización

InSPEC proporciona trabajos avanzados de metrología multichip con escaneo integrado, detección de contornos, correcciones y procesamiento de datos.

Aplicaciones clave

Ideal para clientes que requieren rendimiento, fiabilidad y adaptabilidad para una amplia variedad de sectores:

  • Litografía
  • Fabricación de máscaras fotónicas y plantillas
  • Desarrollo de tecnologías ópticas integradas
  • Metrología e inspección
  • Nanofabricación
  • Litografía de escala de grises

Tecnología innovadora y modular

BEAMER, se ha convertido en el estándar  para el procesamiento de patrones de escritura directa de haz electrónico  y TRACER mejora los límites de sus procesos y aplicaciones. MASKER es un paquete de software de preparación de datos de máscaras optimizado para la más alta productividad y calidad, especialmente para máscaras en las áreas de aplicación de pantallas, fotónicas, IoT y dispositivos especiales. Para la metrología y la inspección,  ProSEM e InSPEC  es una nueva solución de metrología e inspección SEM .

Interfaz y facilidad de uso

Diseñado con una fuerte enfoco para dar una gran facilidad de uso y los requisitos de aplicación para el el desarrollo y la producción de nanotecnologías .