ATC SISTEMAS MULTITÉCNICOS E HÍBRIDOS
Información General
Los sistemas multitécnicos de la serie ATC-M de AJA International son herramientas versátiles que combinan varias operaciones de deposición de películas finas, fresado iónico y análisis en una sola cámara (sistemas híbridos) o en varias cámaras (sistemas multicámara) para permitir la transferencia in situ de sustratos de un proceso a otro sin romper el vacío.Estos sistemas pueden construirse en configuraciones HV o UHV, y en estilos de cámaras cilíndricas, de caja o mecanizadas.
Los sistemas multitécnicos de la serie ATC-M de AJA International son herramientas versátiles que combinan varias operaciones de deposición de películas finas, fresado iónico y análisis en una sola cámara (sistemas híbridos) o en varias cámaras (sistemas multicámara) para permitir la transferencia in situ de sustratos de un proceso a otro sin romper el vacío.Estos sistemas pueden construirse en configuraciones HV o UHV, y en estilos de cámaras cilíndricas, de caja o mecanizadas.
Las multitécnicas empleadas incluyen: |
CONFIGURACIONES TÍPICAS DE SISTEMAS MULTITÉCNICOS
Doble ATC-Orion UHV con bloqueo de carga común
Doble ATC-ORION UHV con bloqueo de carga común
El sistema cuenta con cámaras de proceso de pulverización catódica y evaporación con (8) fuentes de pulverización catódica UHV A320-O de 2″, (1) cañón electrónico lineal UHV de 6 orificios y 15 cc, (4) fuentes térmicas resistivas, calentadores de sustrato giratorios de 850°C con polarización de RF, platina secundaria basculante/refrigerada, RHEED, control por ordenador, casete de bloqueo de carga con intercambio de máscara in situ para sustratos de 4″ de diámetro y sistema de transferencia de cámara a cámara. |
ATC UHV Cámara doble
Cámaras duales UHV ATC
Sistema dual UHV ATC 1800/2200E (Sputter/ E-Beam) con (4) fuentes de sputter UHV A320-XP de 2″ con inclinación in situ, (2) pistolas lineales UHV e-guns de 4 huecos y 15 cc, fuente de iones RF, turbobombas de 1200 l/s, calentadores de sustrato giratorios de 850°C con polarización RF, control por ordenador y bloqueo de carga de vértice común para sustratos de 100 mm Ø. |
ATC de doble cámara con bloqueo de carga de casete común
ATC Dual UHV
El sistema de pulverización catódica dual anterior está conectado mediante un cierre de carga común con casete de (6) posiciones compatible con «maleta de vacío». La cámara de la izquierda incluye (7) fuentes de pulverización catódica de ángulo fijo y tiene una presión base de 1,0 x 10-8 Torr. La cámara de la derecha cuenta con una camisa de cocción integral, (4) fuentes de pulverización catódica de inclinación in situ, una fuente de iones de rejilla y tiene una presión de base en el rango de 10-10 Torr. |
ATC Dual Chamber – Deposición por pulverización catódica/láser pulsado
ATC Sputter doble/PLD
La cámara de la derecha es una ATC 2200 completa con (6) fuentes de pulverización UHV con inclinación in situ y un calentador de sustrato de 850°C con polarización RF, movimiento Z y rotación azimutal. La cámara de la izquierda está conectada a un láser a través del túnel de seguridad y dispone de PLD desde una torreta de seis objetivos. Esta cámara también incluye calentamiento a 850 °C y RHEED de alta presión y doble bombeo diferencial. Ambas están conectadas por un cierre de carga de vértice común. |
PLD (6) x 1″ diá. Torreta de puntería con escudo de aislamiento |
Torreta de blancos PLD (6) x 1″ en funcionamiento
Durante el funcionamiento del láser, los blancos individuales giran azimutalmente y ejecutan un movimiento de bamboleo de aceleración/deceleración para permitir una erosión uniforme del blanco. |
CONFIGURACIONES TÍPICAS DE SISTEMAS HÍBRIDOS
ATC-MC-HY con tubo de transferencia UHV e interfaz de guantera
ATC -MC-HY Herramienta de deposición híbrida multicámara con tubo de transferencia UHV e interfaz de guantera
La herramienta de deposición híbrida multicámara ATC-HY combina dos cámaras de proceso híbridas, cada una con evaporación térmica y por haz de electrones, pulverización confocal por magnetrón, grabado por haz de iones con una inclinación de 360 grados y un soporte de sustrato refrigerado por agua. Además, una tercera cámara de proceso cuenta con capacidad de post recocido, oxigenación y cenizado. Todas están conectadas mediante un tubo de transferencia magnética UHV con aislamiento seccional, bloqueo de carga integral y compatibilidad con guanteras. |
ATC 1800-HY
Sistema híbrido ATC 1800-HY
Incorpora sputtering confocal, una fuente lineal de haz electrónico de (6) bolsillos, fresado iónico y una fuente de sputtering retráctil para sputtering directo a corta distancia de trabajo (por ejemplo, superconductores de Nb). Esta herramienta UHV también incorpora un soporte de sustrato inclinable +/- 200° con refrigeración del sustrato y rotación azimutal. |
ATC 2030-HY
ATC 2030-HY
La cámara de HV cuenta con un bloqueo de carga de vacío turbo-bombeado para sustratos de hasta 6″ de diámetro y un sistema de control por ordenador basado en Labview que gestiona todas las funciones de sputtering y calentamiento y se comunica perfectamente con el controlador de deposición Inficon para operaciones de haz electrónico. |
ATC 2030-HY
Dispone de una fuente de haz de electrones de (6) bolsillos giratorios de 15 cc con blindaje, fuentes de pulverización catódica por magnetrón de (1) 2″ y (2) 3″ con inclinación y un calentador de sustrato de 850 °C con rotación azimutal, movimiento Z y polarización de RF. |
ATC Orion 8-E-HY
ATC Orion 8-E-HY
Esta potente herramienta cuenta con una fuente lineal de haz electrónico UHV, una fuente de pulverización catódica UHV de 3″ con inclinación in situ, varios soportes de sustrato diferentes y un bloqueo de carga de vacío.. |
ATC Orion 8-E-HY
Esta vista muestra un anillo basculante refrigerado por agua que puede aceptar un soporte de sustrato procedente de un calentador de lámpara de 850°C. El anillo puede orientarse para la deposición normal a partir de ambas fuentes o para la evaporación en la sombra. |
ATC Orion 8-E-HY
El anillo refrigerado por agua de la izquierda puede sustituirse por un calentador de sustrato basculante de 2″ y 1000°C con un obturador de cuña programable refrigerado por agua para la deposición de película en gradiente. |
ATC 1800-HY
ATC 1800-HY
Cuenta con una fuente lineal de haz electrónico UHV de (6) cavidades, un soporte de sustrato inclinable +/- 200° con rotación azimutal y polarización de RF, (2) fuentes de pulverización UHV y una fuente de iones de rejilla de 4 cm. |
ATC 1800-HY
Esta imagen muestra nuestro sistema de transferencia de «bayoneta magnética» de AJA. |