SISTEMAS DE EVAPORACION

Los sistemas ATC-E (E-Beam Evaporation) y ATC-T (Thermal Evaporation) de AJA International son herramientas de recubrimiento HV y UHV altamente evolucionadas diseñadas para la deposición de películas finas a escala de I+D. Estos sistemas cuentan con bloqueos de carga, fresado iónico / fuentes de asistencia iónica, soportes de sustrato calefactados/refrigerados, control de deposición QCM / control informático y fuentes de deposición térmica de 300 amperios refrigeradas por agua exclusivas de AJA.

ATC-E SERIES E-BEAM EVAPORATION SYSTEMS
E-Beam Evaporation Systems

  • Box style and cylindrical chambers
  • HV & UHV versions available
  • Load lock & cassette options
  • Rotary or linear e-beam sources
  • Integrated hoist or hinged door
  • Single, multi-layer or co-evaporation
  • Linear e-gun slide available
  • Planetary, heated and cooled substrate holders
  • Configured for your application

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 ATC-T SERIES THERMAL EVAPORATION SYSTEMS
Thermal Evaporation Systems

  • Box style or cylindrical chambers
  • HV & UHV versions available
  • Thermal source array on slide available
  • Load lock & cassette options
  • Water cooled shielding as required
  • Integrated hoist or hinged door
  • Configured for your application

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TUTORIALES SOBRE EVAPORACIÓN DE PELÍCULA FINA
¿Qué es la evaporación térmica?
La evaporación térmica es una de las técnicas más sencillas de deposición física en fase vapor (PVD).  Básicamente, el material se calienta en una cámara de vacío hasta que los átomos de su superficie tienen energía suficiente para abandonar la superficie.  En este punto, atravesarán la cámara de vacío, con energía térmica (menos de 1 eV), y recubrirán un sustrato situado por encima del material en evaporación (las distancias medias de trabajo son de 200 mm a 1 metro).
¿Qué es la evaporación por haz de electrones?
La evaporación por haz de electrones es una técnica de deposición física en fase vapor (PVD) en la que se genera un intenso haz de electrones a partir de un filamento y se dirige a través de campos eléctricos y magnéticos para golpear el material de partida (por ejemplo, gránulos de Au) y vaporizarlo en un entorno de vacío. En algún momento, a medida que el material fuente se calienta mediante esta transferencia de energía, sus átomos superficiales tendrán suficiente energía para abandonar la superficie.  En ese momento atravesarán la cámara de vacío, con energía térmica (menos de 1 eV), y podrán utilizarse para recubrir un sustrato situado por encima del material en evaporación.  Las distancias medias de trabajo son de 300 mm a 1 metro.
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