Sistema de grabado por plasma

• • ICP PLASMA ETCHING (ICP-RIE) SYSTEMS

Samco ofrece múltiples sistemas de grabado por plasma ICP (ICP-RIE) para satisfacer las necesidades de proceso de cada cliente para el grabado por plasma.
Nuestros sistemas de grabado de plasma ICP son capaces de procesar varios tipos de materiales (silicio, dieléctricos, semiconductores compuestos III-V, metales, polímeros, resistencias y más) desde muestras pequeñas / obleas hasta 300 mm.

• • • Sistemas de grabado ICP con bloqueo de carga

Un sistema de bloqueo de carga tiene una cámara de reacción y una cámara de carga separada. La adición de una esclusa de carga permite que la cámara de reacción permanezca en vacío. El entorno controlado mejora la repetibilidad del proceso. Los sistemas de bloqueo de carga también suelen ser necesarios cuando se utilizan gases corrosivos o tóxicos, como el cloro, y cuando los subproductos del grabado son nocivos.

El RIE-400iP y el RIE-800iP son sistemas de grabado por plasma de acoplamiento inductivo de alta precisión que pueden utilizarse para grabar todo tipo de películas semiconductoras, aislantes y metálicas. Incluyen todas las características del ICP de carga abierta y pueden personalizarse con opciones adicionales necesarias para grabar materiales específicos.

• • • Sistemas de grabado ICP de casetes atmosféricos

Para productos químicos basados en flúor u orgánicos, la adición de un casete atmosférico a una cámara de reacción puede ser la solución ideal para aumentar el rendimiento. El RIE-100iPC es un sistema de grabado por plasma de acoplamiento inductivo que incluye un casete simple o doble acoplado a un robot atmosférico y un alineador de obleas. El robot dispone de succión por vacío que permite la transferencia de obleas a alta velocidad, y la estación de alineación garantiza la precisión de la carga.

En esta configuración, la cámara de reacción se purga rápidamente para descargar y, a continuación, cargar una nueva oblea. Tras cerrarse la válvula de hendidura de la cámara de reacción, ésta se bombea hasta la presión de proceso y, una vez finalizado éste, se repite el ciclo.

La RIE-100iPC incluye todas las características de la plataforma de carga abierta. Un e-chuck opcional aumenta la transferencia de calor desde el sustrato durante el procesamiento

• • • Sistemas de grabado ICP con casete de vacío

Los sistemas de casetes de vacío se utilizan normalmente cuando los procesos requieren un entorno controlado, se utilizan gases corrosivos/tóxicos como el cloro, o cuando los subproductos del grabado son nocivos. En esta configuración, la cámara de reacción está acoplada a una cámara de transferencia con robot de vacío, y una cámara de carga adicional incluye un elevador de casetes de vacío.

Los RIE-230iPC, RIE-330iPC y RIE-400iPC son sistemas de grabado por plasma de acoplamiento inductivo de alta precisión basados en casetes que pueden utilizarse para grabar todo tipo de películas semiconductoras, aislantes y metálicas. Incluyen todas las características del ICP de carga abierta y disponen de opciones adicionales necesarias para el grabado de materiales específicos.

• • SISTEMAS ICP ETCH PARA GRABADO CON PLASMA SIC DE ALTA POTENCIA

El carburo de silicio (SiC) es un material semiconductor compuesto que posee una amplia banda de separación, un elevado campo de ruptura y una alta conductividad térmica.
El material es prometedor como un substrato de la próxima generación de dispositivos de potencia y circuitos integrados de microondas monolíticos (MMIC).
Samco ofrece sistemas de grabado ICP especializados para la fabricación de máscaras SiO2 y grabado SiC sobre la máscara en la fabricación de dispositivos de potencia SiC y MMIC. La línea de productos cubre tanto I+D como producción.

• • • Sistema de grabado ICP con bloqueo de carga

• • • Sistema de grabado ICP de casete a casete

• • SISTEMAS DE GRABADO ICP PARA PROCESAMIENTO POR LOTES

Samco ofrece múltiples sistemas de grabado ICP para el procesamiento de lotes basado en la producción.
Estos sistemas han sido probados por la mayoría de los principales fabricantes de varios mercados, incluyendo la producción de diodos emisores de luz de alto brillo (HB LED).

• • • Sistemas de grabado ICP basados en Loadlock

Incorpora las exclusivas bobinas Tornado, que muestran una gran uniformidad de grabado sobre las obleas en el procesamiento por lotes.

• • • Sistemas de grabado ICP en casete

Capaz de manipular bandejas para el procesamiento de lotes de gran volumen

• • • Sistemas de grabado ICP con opciones de carrusel

Opciones de carrusel adecuadas para la automatización de fábricas en las que se transfieren casetes de sustratos individuales a bandejas de lotes