Roll to Roll ALD
Fuente de Plasma de Cátodo Hueco Mejorada por Rotación Ciclotrónica de Electrones (ECR)
En la Fuente de Plasma de Cátodo Hueco (HCPS) mejorada con Resonancia Ciclotrónica de Electrones (ECR) de Nano-Master, se colocan imanes cilíndricos alrededor del cuello del cátodo hueco para generar un campo magnético que obliga a los electrones a seguir una trayectoria en espiral estrecha a través del cátodo mediante la rotación ciclotrónica de electrones (ECR). Esto confina el plasma lejos de las paredes del cátodo y produce un plasma muy estable y de alta densidad en la salida del cátodo.
Características Principales
Precisión y control para procesos avanzados
- Incorpora una Fuente de Plasma de Cátodo Hueco (HCPS) mejorada mediante Resonancia Ciclotrónica de Electrones (ECR) para la generación de plasma
- Admite tanto ALD térmico como ALD mejorado por plasma (PEALD)
- Operación de ALD de flujo continuo sin detener el movimiento del sustrato
- Múltiples cavidades de plasma distribuidas a lo largo del ancho del sustrato proporcionan una distribución de plasma altamente uniforme sobre láminas flexibles de gran área
- Sistema de distribución de gas tipo “ducha” diseñado para proporcionar una entrega de gas altamente uniforme a lo largo del ancho de la banda
- Opera a presiones de proceso muy bajas: hasta 0.3 mTorr
- Permite la deposición a baja temperatura en materiales flexibles sensibles al calor
Características Principales
Sistema PEALD rollo‑a‑rollo " roll to roll "
- No requerimos un movimiento indexado o de avance‑y‑paro del sustrato.
- Plasma de muy alta densidad y muy estable a bajas presiones
- Operación del plasma demostrada hasta aproximadamente 0,3 mTorr.
- Plasma de baja temperatura electrónica (~1–2 eV).
- Zonas separadas de inyección de precursor y de plasma
- Bajo daño por plasma en películas flexibles
- Arquitectura de plasma multicavidad escalable
