Desde Irida y en colaboración con el ISOM, tenemos el placer de invitarles al próximo Workshop que vamos a organizar en la Universidad Politécnica de Madrid ETSI Telecomunicaciones el próximo 5 de Abril de 2022 WORKSHOP -Maskless Direct Writing and 3D Lithography: Capabilities and Applications Para acceder al programa pinche el siguiente enlace: Workshop 3D
Únase a nuestro próximo webinar «Consejos y métodos para la reducción de datos, interpretación e identificación de picos, en el uso del tándem MS en TOF-SIMS” presentado por el Dr. Gregory L. Fisher. Este webinar gratuito se celebrará el 21 de abril de 2022 10:00 a. m. en Hora central (EE. UU. y Canadá) Regístrese en: Inscripción al
La limpieza por plasma y la activación de la superficie para mejorar la adherencia es una tecnología clave en la fabricación de dispositivos médicos. Nuestros sistemas permiten un ajuste fino de la energía de la superficie y también una funcionalización química específica que ofrece propiedades superficiales avanzadas. https://buff.ly/3HBqlgC #medicaldevices #plasmatreatment #surfaceactivation #improveadhesion #mfguk #manufacturing Para ampliar información: info@irida.es Home
Terminando la serie 1 – 10 – 100 – 1000: Estamos orgullosos de presentar el nuevo Sistema MPO 100. La plataforma de polimerización de dos fotones MPO 100 de Heidelberg Instruments es una herramienta multiusuario que combina los requisitos de la litografía 3D con resoluciones en el rango de los 100 nm y la microimpresión
SEMINARIO 24th of January 2022 Institute of Catalysis and Petrochemistry – CSIC Description: New innovations are transforming the Transmission Electron Microscope (TEM) from a simple high-resolution image acquisition tool into a nanoscale materials research and development laboratory. Researchers can now better understand material behavior by analyzing samples in real-world gas or liquid environments, at high
¿Sabía que? Con nuestros equipos podemos estructurar fotorresistencias tanto negativas como positivas. Con las fotorresistencias negativas las áreas expuestas se reticulan y permanecen en el sustrato después del paso de revelado. (izquierda) Cuando se utilizan fotorresistencias positivas, las zonas expuestas se eliminan con el paso de revelado. (derecha). ¿Quiere saber más? Lea nuestras preguntas frecuentes
Physical Electronics, líder mundial en instrumentación de análisis de superficies UHV, ha anunciado la nueva generación de VersaProbe 4 de PHI, un exitoso espectrómetro de fotoelectrones de rayos X (XPS) multitécnico diseñado para mejorar el rendimiento espectroscópico y aumentar la productividad y la innovación de los laboratorios académicos e industriales. El nuevo PHI VersaProbe 4
Acompáñenos el miércoles 1 de diciembre en un seminario web especial sobre el uso de las mediciones de microscopía de fuerza atómica (AFM) en la investigación biomédica. Aprenda de los expertos cómo llevar a cabo el análisis de muestras biológicas con AFM – por ejemplo, obtener imágenes de rigidez, adhesión y topografía de las células.
Las membranas de separación de gases son alternativas prometedoras a los enfoques convencionales basados en la destilación y la absorción de disolventes, debido a su bajo consumo energético y a su capacidad de ampliación a gran escala. Por ello, la mejora de la tecnología de membranas de separación de gases es objeto de una intensa
Nos complace anunciar que las herramientas del MiniLab estarán ahora disponibles con fuentes especializadas para la deposición al vacío de nanopartículas ultrapuras con tamaños variables en el rango de 1-20 nm. Las fuentes comienzan generando material de manera similar al sputtering de magnetrón. Este material pasa por una zona de agregación antes de salir a
