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(Español) Pixelink® anuncia la integración de WinROOF2018 por Mitani Corporation para el procesamiento y medición avanzada de imágenes
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(Español) Caracterización de grafeno usando XPS – PHI VersaProbe III
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(Español) Protochips Fusion SEM in situ
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(Español) Descubre el MLA300 THE MASKLESS ALIGNER FOR VOLUME PRODUCTION
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(Español) ESPECIAL DESCUENTO EN PUNTAS AFM Y ACCESORIOS DE ASYLUM RESEARCH-OXFORD INSTRUMENTS
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(Español) Mesa anti cortinas – Mecedora en metal impreso en 3D – Anti Curtaining Table – Rocking mill on 3D printed metal
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(Español) Ergo: el futuro del control AFM
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El primer NanoFrazor equipado con modo de escritura por láser, instalado en EPFL
Los ingenieros de SwissLitho instalaron una extensión láser en el NanoFrazor Explore en el laboratorio del profesor Brugger en EPFL en Lausana, Suiza. El DLS (complemento de litografía láser directa) fue desarrollado por SwissLitho en colaboración con Heidelberg Instruments y convierte el NanoFrazor en una plataforma híbrida para litografía mix & match. La punta calentada