Estamos encantados de compartir algunas novedades interesantes sobre el NanoFrazor.
Basado en más de 20 años de rigurosa I+D, el NanoFrazor sigue revolucionando la nanofabricación con su tecnología de litografía de sonda de barrido térmico (t-SPL). Este sistema pionero apoya la investigación avanzada en dispositivos cuánticos, materiales 1D/2D, puntos cuánticos, puentes Dolan, uniones Josephson y matrices a nanoescala, destacando en aplicaciones como la fotónica en escala de grises y los sustratos biomiméticos para el crecimiento celular.
Presentación de la nueva generación de NanoFrazor
La próxima generación del NanoFrazor presenta configuraciones interesantes para mejorar sus capacidades de investigación:
Escritura en paralelo: Acelere sus procesos de creación de patrones con operaciones simultáneas de varias puntas.
Manejo de grandes diseños: Gestione sin problemas diseños extensos con automatización mejorada y cosido avanzado.
Automatización mejorada: Consiga una mayor precisión y eficacia con las funciones de automatización mejoradas.
Características principales de NanoFrazor:
Plataforma modular: Adapte NanoFrazor a su aplicación y entorno de laboratorio específicos. Combine modos de patrón, opciones de carcasa y módulos de software para obtener un rendimiento óptimo.
Módulo de sublimación láser directa: Escriba nano y microestructuras rápidamente en un solo paso de fabricación con imágenes in situ para la superposición sin marcadores y la comparación de patrones en tiempo real.
Litografía de bucle cerrado: Consiga una precisión vertical inferior a 2 nm para formas intrincadas en 2,5D (escala de grises) con un control rápido y preciso de una punta calentada a nanoescala.
Punta de sonda calefactable ultrafina: Escriba e inspeccione nanoestructuras complejas simultáneamente, garantizando perfiles de profundidad precisos y patrones de alta resolución.
Nuestro dedicado equipo de expertos perfecciona continuamente los procesos de transferencia de patrones, recopilando esta experiencia en una completa biblioteca de mejores prácticas y protocolos para apoyar sus esfuerzos de investigación. El Recetario de NanoFrazor, que contiene los procesos recomendados y los datos de los materiales, ayuda a integrar perfectamente t-SPL en sus flujos de trabajo.
El conjunto de sistemas y tecnología de Heidelberg Instruments comprende sistemas de alineación sin máscara (MLA) y litografía láser de alta precisión para la escritura directa de microestructuras 2D, 2,5D y 3D para la fabricación de máscaras, y sistemas basados en la litografía de sonda de barrido térmico (t-SPL) para el nanopatterning avanzado. Los sistemas de litografía láser 3D basados en la tecnología de polimerización de dos fotones (TPP) cierran la brecha entre la litografía láser convencional – la base de la sólida actividad principal de Heidelberg Instruments – y la litografía de sonda de barrido térmico (t-SPL) para el nanopatterning.
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La litografía de sonda de barrido térmico (t-SPL) es un método de creación de patrones en el que se sublima un resistivo termosensible mediante una punta calefactada ultrafina. Este método permite escribir nanoestructuras complejas de alta resolución e inspeccionarlas visualmente con la misma herramienta.
La tecnología NanoFrazor representa una alternativa a los métodos convencionales de nanofabricación. Permite tanto la creación de patrones de alta resolución como la obtención de imágenes con una velocidad de exploración de 1 mm/s.
Si quieres ampliar información. No dudes en contactarnos en info@irida.es o en el 91 113 08 24
