La fotolitografía tradicional requiere la fabricación o compra de una fotomáscara y el uso de un alineador paso a paso o máscara para transferir el patrón CAD a la oblea o placa cubierta con resistencia. En este momento, el bien establecido proceso de fotomask es, de hecho, la única forma factible para la fabricación de alto volumen de características de diseño de tamaño submicrométrico, y Heidelberg Instruments ofrece sistemas para la producción de fotomask en la industria de semiconductores, electrónica y visualización (VPG +, ULTRA).

Sin embargo, existe otra técnica de fotolitografía disponible que constituye la herramienta perfecta para muchas otras aplicaciones: la fotolitografía sin máscara. Esta tecnología de vanguardia, rápida, altamente precisa y excepcionalmente versátil es ideal para su uso en Investigación y Desarrollo o en un entorno de creación de prototipos que involucra diseños con características de más de una micra. Si eso describe su área de trabajo y está familiarizado con las desventajas del proceso de fotomáscara, existe una técnica que le permite transferir su diseño directamente a la oblea, formando el patrón, mientras elimina el alineador de máscara y el proceso de fotomáscara por completo.

En la fotolitografía sin máscara, el patrón se expone directamente sobre la superficie del sustrato con la ayuda de un modulador de luz espacial (SLM), que sirve esencialmente como una máscara programable. El sistema toma su archivo de diseño y simplemente «escribe» el patrón en el sustrato cubierto con resistencia. Este proceso de escritura directa lo coloca en una posición para omitir todo el proceso de fotomáscara que lleva mucho tiempo y todo lo que implica: en su lugar, puede rediseñar su dibujo CAD (una y otra vez, si es necesario) e inmediatamente volver a exponer el patrón . – Descubra nuestra serie de herramientas de litografía láser con alineador sin máscara (MLA) y escritura directa (DWL).

LOS DIFERENTES EQUIPOS

MLA300                                        

μMLA

MLA150

DWL 66+

DWL 2000/4000

VPG+ 200 AND VPG+ 400

VPG+ 800/1100/1400

ULTRA.

 

* MLA300 – THE MASKLESS ALIGNER FOR VOLUME

PRODUCTION

 

El MLA300 es la versión de producción industrial del Alineador sin máscara, que ya se ha convertido en un estándar en aplicaciones de Investigación y Desarrollo, creación rápida de prototipos y producción de volumen bajo a medio. El MLA300 logra altas resoluciones de líneas y espacios de 2 µm con el alto rendimiento y la alta disponibilidad esperada en la producción. Cuenta con automatización completa con puerto de carga y robot de obleas, y software diseñado específicamente para el entorno de producción para ofrecer un flujo de trabajo automatizado simplificado.

Al mismo tiempo, presenta todas las ventajas asociadas con la litografía sin máscara: los gastos generales y los gastos asociados con la adquisición de máscaras, y su manejo, limpieza y almacenamiento se eliminan.

La tecnología Maskless Aligner utiliza un modulador de luz espacial que esencialmente actúa como una máscara dinámica. Ofrece la flexibilidad para estructurar los sustratos más desafiantes, permitiendo correcciones de patrones por dado (por ejemplo, para reaccionar a distorsiones o variaciones de proceso), y emplea un enfoque automático en tiempo real para seguir la deformación o corrugaciones del sustrato. Los módulos de exposición totalmente integrados están disponibles para una selección de longitudes de onda (375 nm o 405 nm) y con diferentes opciones de resolución. Se pueden montar múltiples módulos de exposición en el MLA300 para un rendimiento aún mayor.

El MLA300 se destaca en áreas de aplicación como la producción de sensores, circuitos integrados de sensores, dispositivos MEMS, componentes electrónicos discretos, circuitos integrados analógicos y digitales, ASIC, electrónica de potencia, pantallas OLED, así como para aplicaciones avanzadas de embalaje.

* μMLA –  THE TABLE-TOP MASKLESS ALIGNER

NUEVO: El sistema de mesa µMLA presenta nuestra tecnología sin máscara de vanguardia y es la herramienta de nivel de entrada perfecta para Investigación y Desarrollo, en prácticamente todas las áreas que requieren microestructuras. Ejemplos típicos son Microfluídica, Micro Óptica, Sensores, MEMS y Ciencia de Materiales. El µMLA es flexible y personalizable como ninguna otra herramienta de escritura directa de sobremesa y admite el uso de muestras de tamaño milimétrico.

Seleccione el modo de exposición que necesita o incluso equipe su µMLA con ambos: El módulo de exposición de exploración de ráster proporciona una exposición rápida con una velocidad independiente de la complejidad del diseño. El módulo vectorial expone curvas continuas, creando contornos suaves vitales para aplicaciones como guías de onda. Además, el µMLA ofrece una selección de 2 configuraciones ópticas con diferentes rangos de rendimiento y resolución variable. Dentro de su configuración óptica, el software permite cambiar fácilmente entre tres configuraciones, optimizando la resolución y la velocidad de acuerdo con sus requisitos

*MLA150 – THE ADVANCED MASKLESS ALIGNER FOR

R&D AND LOW-VOLUME PRODUCTION

 

La exposición sin contacto, la extraordinaria facilidad de uso y la alta velocidad hacen del Maskless Aligner MLA150 la herramienta ideal en entornos de creación rápida de prototipos, para producción de volumen bajo a medio, y en Investigación y Desarrollo. Nuestra tecnología sin máscara, una vez revolucionaria y ahora de vanguardia, se ha establecido firmemente desde que nuestra serie Maskless Aligner se introdujo por primera vez en 2015. El MLA150 ahora presenta la alternativa moderna a la máscara tradicional Aligner.

La fotolitografía sin máscara elimina la necesidad de una fotomáscara: el sistema expone el patrón directamente sobre la superficie cubierta por resistencia. Si se requieren modificaciones de diseño, estas pueden implementarse rápidamente cambiando el diseño CAD, lo que resulta en tiempos de ciclo muy reducidos. También se beneficiará de un procedimiento rápido y automatizado de alineación frontal y posterior, así como de la velocidad sobresaliente: exponer un área de 100 x 100 mm² con estructuras tan pequeñas como 1 micrón tomará menos de 10 minutos. Las áreas de aplicación del MLA150 incluyen ciencias biológicas, MEMS, microóptica, semiconductores, sensores, actuadores, MOEMS, investigación de materiales, nanotubos y grafeno.

*DWL 66+  – THE ULTIMATE LITHOGRAPHY TOOL – THE

SPECIALIST FOR GRAYSCALE MODE

El sistema de litografía láser DWL 66+ es un generador de patrones económico y de alta resolución para escritura directa. El sistema presenta opciones potentes como la alineación frontal y posterior y una opción de longitud de onda láser de 405 nm o 375 nm. Otras opciones avanzadas incluyen una calibración de posición absoluta y un sistema de carga automático. Hay disponibles un total de seis modos de escritura diferentes, entre ellos el modo de alta resolución con una resolución de 300 nm. En particular, el DWL 66+ presenta el rendimiento máximo en el modo de exposición en escala de grises, desde los niveles estándar hasta el profesional: esta técnica versátil para la creación de microestructuras complejas 2.5D en capas gruesas de fotoprotectores positivos de bajo contraste se utiliza para aplicaciones como micro lentes , DOE, hologramas (CGH) y superficies texturizadas.

Este sistema altamente flexible y personalizable se puede adaptar específicamente a su aplicación: las capacidades sofisticadas del DWL 66+ lo convierten en la herramienta de investigación de litografía esencial en ciencias de la vida, embalaje avanzado, MEMS, microóptica, semiconductores y todas las demás aplicaciones que requieren microestructuras,

*DWL 2000/4000 – HIGH RESOLUTION PATTERN

GENERATORS –DIRECT 2D AND 2.5D WRITING FOR

LARGE AREAS

Los sistemas de litografía láser DWL 2000 y 4000 constituyen generadores de patrones rápidos, flexibles y de alta resolución, capaces del nivel de rendimiento profesional de la litografía en escala de grises. Este último permite la creación de estructuras complejas 2.5D en fotorresistencia gruesa sobre grandes áreas. Las aplicaciones más comunes del modo de exposición en escala de grises incluyen la fabricación de ópticas de nivel de oblea utilizadas para segmentos de mercado de telecomunicaciones o iluminación; También se utiliza en la fabricación de pantallas y en la fabricación de dispositivos en Biología y Ciencias de la Vida.

Además de la escala de grises, las herramientas de la serie DWL se destacan en exposiciones 2D binarias, hasta la resolución más alta con un tamaño de característica mínimo de 500 nm. Con un área de escritura de hasta 400 mm x 400 mm y el sistema de carga automática opcional, estos sistemas proporcionan la solución perfecta si necesita un patrón de alto rendimiento de máscaras y obleas en MEMS, BioMEMS, Micro Óptica, ASIC, Micro Fluidics, Sensores y CGHs.

*VPG+ 200 AND VPG+ 400 – MULTI-PURPOSE VOLUME

PATTERN GENERATORS

Nuestros generadores de patrones de volumen multipropósito son perfectamente adecuados para la producción de fotomascaras estándar, así como para aplicaciones de resistencia i-line. Un motor de exposición de ultra alta velocidad y la capacidad de alineación automatizada contribuyen a sistemas que se destacan por su alta resolución, excelente calidad de imagen y rendimiento rápido.

Nuestros sistemas VPG + 200 y 400 presentan una solución perfecta para aplicaciones que utilizan resistencias i-line como SU-8 e IP 3600, por ejemplo, para aplicaciones de creación rápida de prototipos en microfluídica. En combinación con su alta velocidad y resolución, los VPG + 200 y 400 proporcionan una excelente alternativa a un i-line stepper.

Las aplicaciones típicas para los miembros del área de exposición más pequeña de la familia VPG + incluyen campos tan exigentes como MEMS, empaque avanzado, integración 3D, producción de LED y semiconductores compuestos.

*VPG+ 800/1100/1400 – LARGE–AREA VOLUME

PATTERN GENERATORS FOR FABRICATION OF MASKS

AND DISPLAYS

 

Nuestros sistemas VPG + de área grande están perfectamente equipados para aplicaciones como la fabricación de fotomascaras para empaque avanzado, semiconductores, pantallas, filtros de color, LED y aplicaciones de panel táctil. Los sistemas admiten todos los formatos de datos industriales y ofrecen funciones de optimización Mura que garantizan una excelente uniformidad y resolución de CD. Las cámaras ambientales de circuito cerrado cumplen con los requisitos más estrictos para su uso en tecnología avanzada de fotomask. Debido a su velocidad, precio atractivo del sistema y bajos costos de funcionamiento, la serie VPG + de área grande representa la solución más productiva para aplicaciones de fotomask de área grande.

El VPG + 1400 es nuestro sistema más grande y está especialmente dirigido a aplicaciones en la industria de pantallas: aplicaciones FPD como arreglos TFT y filtros de color, e ITO. El VPG + 1400 presenta una cámara ambiental particularmente poderosa, un interferómetro diferencial con una resolución de hasta 1.2 nm y capacidades avanzadas de corrección de Mura

 

uestros sistemas VPG + de área grande están perfectamente equipados para aplicaciones como la fabricación de fotomascaras para empaque avanzado, semiconductores, pantallas, filtros de color, LED y aplicaciones de panel táctil. Los sistemas admiten todos los formatos de datos industriales y ofrecen funciones de optimización Mura que garantizan una excelente uniformidad y resolución de CD. Las cámaras ambientales de circuito cerrado cumplen con los requisitos más estrictos para su uso en tecnología avanzada de fotomask. Debido a su velocidad, precio atractivo del sistema y bajos costos de funcionamiento, la serie VPG + de área grande representa la solución más productiva para aplicaciones de fotomask de área grande.

El VPG + 1400 es nuestro sistema más grande y está especialmente dirigido a aplicaciones en la industria de pantallas: aplicaciones FPD como arreglos TFT y filtros de color, e ITO. El VPG + 1400 presenta una cámara ambiental particularmente poderosa, un interferómetro diferencial con una resolución de hasta 1.2 nm y capacidades avanzadas de corrección de Mura.

*ULTRA – THE SEMICONDUCTOR LASER MASK WRITER

El ULTRA aborda específicamente la producción de fotomascaras de semiconductores maduros. Proporciona una solución económica de creación de máscaras con todas las características que necesita para un alto rendimiento, alta precisión y uniformidad de estructura, y una alineación extremadamente precisa. Con su construcción moderna y compacta, puede incorporar fácilmente el sistema en una infraestructura de tienda de máscaras existente.

Las fotomascaras maduras continúan siendo un componente vital en la fabricación de dispositivos semiconductores, y se utilizan en la administración de energía, microcontroladores, iluminación LED, IOT, MEMS, la industria automotriz, por nombrar solo algunos. ULTRA sirve a este mercado con tamaños de estructura de hasta 500 nm y velocidades de escritura de hasta 325 mm2 o 580 mm2 por minuto, dependiendo del modo de escritura, a la vez que ofrece excelentes valores para CD, calidad de imagen, superposición y registro.

 

 

Para más información: info@irida.es