El nanoETCH implementa la tecnología única de grabado suave de Moorfield y proporciona el control de grabado fino crucial para la investigación del grafeno y los materiales 2D en un cómodo paquete de sobremesa
nanoETCH
El nanoETCH implementa la exclusiva tecnología de grabado suave de Moorfield y proporciona el control de grabado fino crucial para la investigación del grafeno y los materiales 2D en un cómodo paquete de sobremesa.
Como resultado, y en contraste con las soluciones de grabado convencionales, la herramienta permite un alto rendimiento para aplicaciones clave en grafeno y materiales 2D:
Preparación del sustrato para la exfoliación de escamas: Escamas de gran superficie mediante el acondicionamiento de la superficie
Patrones de material limpios: Eliminación del grafeno sin residuos de resina
Ingeniería de defectos: Creación de defectos en las capas de grafeno
De serie, el sistema es apto para aceptar sustratos de hasta 3″ de diámetro. Un sistema de bombeo turbomolecular permite un funcionamiento sin contaminación. Los sustratos se apoyan en una plataforma diseñada a tal efecto, y la energía se suministra desde una unidad de RF diseñada para permitir un control preciso a bajas potencias. Junto con una acústica de RF cuidadosamente modelada en la cámara, esto proporciona a la herramienta sus capacidades únicas.
El sistema puede conectarse a un PC para el registro de datos. La herramienta nanoETCH ya está instalada en los principales laboratorios de investigación de grafeno y materiales en 2D, como el ICFO (España), el Cambridge Graphene Centre y el National Graphene Institute del Reino Unido.ç