Escritor láser directo I+D MLA150
Litografía maskless de última generación
Más rápido para I+D, prototipado y producción a pequeña escala
El MLA150 es un sistema de litografía maskless aligner diseñado para acelerar los procesos de investigación y desarrollo, así como la producción en volúmenes reducidos. Elimina por completo la necesidad de máscaras, reduciendo tiempos de ciclo de forma significativa. Con su velocidad y precisión excepcionales, permite pasar de concepto a prototipo en minutos, abriendo nuevas posibilidades en la nanofabricación y la microingeniería.
Aplicaciones principales
Dónde marca la diferencia
- Nanofabricación cuántica (materiales 2D, semiconductores, nanohilos)
- MEMS y MOEMS
- Microóptica avanzada (microlentes, guías de onda)
- Sensores y actuadores (vida y materiales)
- Litografía en escala de grises además de binaria
Ventajas clave
Por qué elegir el MLA150
- Exposición ultrarrápida: 100 × 100 mm² en menos de 10 min
- Cambios de diseño desde CAD sin fabricar máscaras
- Alineación precisa frontal/trasera con rutinas automatizadas
- Alta resolución y alto aspecto; soporta binaria y grayscale
