Nos complace anunciar que las herramientas del MiniLab estarán ahora disponibles con fuentes especializadas para la deposición al vacío de nanopartículas ultrapuras con tamaños variables en el rango de 1-20 nm.
Las fuentes comienzan generando material de manera similar al sputtering de magnetrón. Este material pasa por una zona de agregación antes de salir a una cámara de proceso como un flujo de nanopartículas que recubre los sustratos soportados.
La tecnología puede utilizarse para depositar una amplia gama de materiales (por ejemplo, Au, Ag, Cu, Pt, Ir, Ni, Ti, Zr, etc.) y es posible un control fino de las propiedades. Las áreas de aplicación incluyen superficies bioactivas, sensores, almacenamiento de energía y electrónica.
Más módulos de sustrato
Moorfield amplía su gama de capacidades de bloqueo de carga
Moorfield ha ampliado aún más su ya impresionante gama de capacidades de bloqueo de carga (grabado, calentamiento, enfriamiento y oxidación), introduciendo la opción de pilas motorizadas de múltiples sustratos para permitir un rápido procesamiento secuencial de lotes de sustratos. Los módulos también permiten la exposición por lotes de obleas a condiciones atmosféricas antes o después del procesamiento, por ejemplo, atmósferas oxidantes y/o temperaturas elevadas.
