NANOLITOGRAFÍA

Disponemos de varios equipos para efectuar Nanolitografía .

Estos equipos pueden ser utilizados tanto para su investigación científica como en la Industria.

Hay cuatro modelos de NanoFrazor de Heidelberg Instruments. Los cuatro modelos se usan con el software nanofrazor y son capaces de realizar características únicas de nanofrazor como patrones 3D, inspección in situ, superposición sin captura sin marcadores y litografía de bucle cerrado de alta resolución (CLL). Difieren principalmente en el tamaño de la muestra factible, la velocidad de posicionamiento,precisión, el nivel de automatización y la compatibilidad con opciones Add-on como el grabador de láser DLS integrado y la extensión de puntas múltiples Decapede.


NanoFrazor systems

NanoFrazor Scholar

Este equipo es, especialmente adecuado, para grupos de investigación académicos que buscan una manera fácil de crear sus propios dispositivos o dispositivos de alta resolución. The Scholar es un sistema de litografía de mesa flexible que ocupa muy poco espacio. Se ajusta incluso dentro de una guantera, lo que permite la fabricación del dispositivo o modificaciones locales de la superficie sin exponer la muestra al aire. Este modelo es ligeramente más lento y menos automatizado que los otros sistemas NanoFrazor. Sin embargo, aún realiza todas las funcionalidades que hacen que la tecnología NanoFrazor sea única y facilita la nueva ciencia y tecnología que no se han realizado antes. Al igual que el establecido NanoFrazor Explore, los voladizos térmicos de NanoFrazor Scholar también se pueden intercambiar y calibrar en un minuto. Esto es posible utilizando un soporte de voladizo magnético de diseño inteligente, un aparato de intercambio dedicado y fácil de usar y rutinas automatizadas de software de calibración. El microscopio óptico digital integrado proporciona una vista de alta resolución del voladizo y la muestra. Le permite al usuario monitorear la muestra y ubicar fácilmente las posiciones de destino para los patrones. La interfaz de usuario autoexplicativa del software NanoFrazor permite a los estudiantes e investigadores realizar una nanolitografía de alta resolución con un entrenamiento mínimo. Además, los usuarios avanzados pueden utilizar el entorno de secuencias de comandos flexible para experimentar con operaciones más complejas.



NanoFrazor Explorer

El NanoFrazor Explore, apareció en en el mercado en 2014, es nuestro primer sistema comercial NanoFrazor. Este sistema bien establecido proporciona flexibilidad total para servir casi cualquier aplicación de investigación que requiera nanoestructuras definidas con precisión.
El Explore permite el modelado y la imagen de topografía con muy alta velocidad y precisión. Esto se logra utilizando un diseño inteligente de escáner piezoeléctrico basado en flexión que combina alta rigidez, cero fricción mecánica y movimiento acoplado fuertemente reducido para ofrecer una precisión de posicionamiento superior. Sensores de bajo ruido, ultrarsensibles, con compensación de temperatura con alto ancho de banda y linealidad sobresaliente están integrados en el interior del escáner para permitir un avanzado control de posicionamiento de bucle cerrado con total remuneración de errores de histéresis piezoeléctrica y fluencia.
Cualquier muestra, de hasta 4 pulgadas de diámetro y 2 cm de grosor, puede ser modeladas por el NanoFrazor Explore. Las guías de rodillos cruzados de gama alta forman la base para una posición de largo alcance rígida y alta.


NanoFrazor Professional

El NanoFrazor Professional es ideal para instalaciones de salas limpias multiusuario más grandes que buscan extender sus capacidades de litografía con las características únicas de NanoFrazor o que deseen simplemente aligerar el uso de sus otros sistemas de nanolitografía.
La oblea de 8 pulgadas compatible con NanoFrazor Professional es capaz de manejar muestras más grandes. Esto es crucial especialmente para las aplicaciones donde la litografía NanoFrazor necesita combinarse con otros pasos de procesamiento e instrumentos que requieren obleas completas de más de 4 pulgadas.
El sistema de posicionamiento avanzado que permite la litografía precisa de NanoFrazor incluso en muestras tan grandes fue desarrollado especialmente por un proyecto de desarrollo financiado por el Gobierno suizo en colaboración con ETH Zurich y Schneeberger.
Dependiendo de los requisitos, el Professional puede estar equipado con una gama de extensiones como un sistema automatizado de manipulación de obleas y una unidad DLS de escritor láser directo.
Un prototipo del NanoFrazor Professional puede ser inspeccionado y probado en Zurich