Los ingenieros de SwissLitho instalaron una extensión láser en el NanoFrazor Explore en el laboratorio del profesor Brugger en EPFL en Lausana, Suiza. El DLS (complemento de litografía láser directa) fue desarrollado por SwissLitho en colaboración con Heidelberg Instruments y convierte el NanoFrazor en una plataforma híbrida para litografía mix & match. La punta calentada de NanoFrazor modela las estructuras finas, y el complemento láser se ocupa de características más grandes (como electrodos y almohadillas de contacto) ambos evaporando directamente la resina. Este enfoque garantiza tanto la alta resolución como el alto rendimiento del sistema.

Compartir noticia