DWL 66+ Laser Lithography
La herramienta versátil para investigación y prototipado
Resolución variable y personalización mediante módulos avanzados
El DWL 66+ es un generador de patrones de escritura láser directa de alta resolución. Diseñado como una herramienta polifacética, es ideal para proyectos de investigación y desarrollo (I+D) en áreas como microelectrónica, MEMS, microfluidos, sensores, envases avanzados y sustratos no estándar.
Gracias a su modo de exposición en escala de grises, permite la creación de microestructuras 2,5D complejas, incluyendo elementos microópticos, óptica difractiva (DOE), hologramas y superficies texturadas.
Configuración modular para cada aplicación
El sistema DWL 66+ es altamente flexible y escalable, con una amplia selección de módulos opcionales que permiten ajustarse a requisitos específicos de cada laboratorio o industria.
Aplicaciones principales
Adaptado a múltiples campos de investigación
- Microelectrónica y MEMS
- Microfluidos y sensores
- Envases avanzados y sustratos especiales
- Óptica avanzada: DOE, hologramas, microópticos móviles
Características clave
Precisión y eficiencia en un solo sistema
- Modo de alta resolución para estructuras críticas
- Alineación frontal y trasera de alta precisión
- Calibración de posición absoluta garantizando exactitud en cada exposición
- Sistema de carga automática que optimiza el flujo de trabajo
