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El MLA300 es la versión de producción industrial del Alineador sin máscara, que ya se ha convertido en un estándar en aplicaciones de Investigación y Desarrollo, creación rápida de prototipos y producción de volumen bajo a medio. El MLA300 logra altas resoluciones de líneas y espacios de 2 µm con el alto rendimiento y la alta disponibilidad esperada en la producción. Cuenta con automatización completa con puerto de carga y robot de obleas, y software diseñado específicamente para el entorno de producción para ofrecer un flujo de trabajo automatizado simplificado.
Al mismo tiempo, presenta todas las ventajas asociadas con la litografía sin máscara: los gastos generales y los gastos asociados con la adquisición de máscaras, y su manejo, limpieza y almacenamiento se eliminan.
La tecnología Maskless Aligner utiliza un modulador de luz espacial que esencialmente actúa como una máscara dinámica. Ofrece la flexibilidad para estructurar los sustratos más desafiantes, permitiendo correcciones de patrones por dado (por ejemplo, para reaccionar a distorsiones o variaciones de proceso), y emplea un enfoque automático en tiempo real para seguir la deformación o corrugaciones del sustrato. Los módulos de exposición totalmente integrados están disponibles para una selección de longitudes de onda (375 nm o 405 nm) y con diferentes opciones de resolución. Se pueden montar múltiples módulos de exposición en el MLA300 para un rendimiento aún mayor.
El MLA300 se destaca en áreas de aplicación como la producción de sensores, circuitos integrados de sensores, dispositivos MEMS, componentes electrónicos discretos, circuitos integrados analógicos y digitales, ASIC, electrónica de potencia, pantallas OLED, así como para aplicaciones avanzadas de embalaje.
CARACTERÍSTICAS CLAVE
- Área de exposición máxima: 300 mm x 300 mm.ç
- Tamaño mínimo de la característica: 1.5 μm
- Líneas y espacios mínimos: 2 µm
- Velocidad máxima de escritura: 5000 mm2 / min (a 405 nm, con un módulo)
- Enfoque automático en tiempo real
- Descripción general de la cámara para una rápida alineación e inspección
- Alineación frontal y posterior
- Cámara ambiental de temperatura controlada
- Longitudes de onda de exposición: 405 nm y / o 375 nm
APPLICATION IMAGES
SUSTRATOS FLEXIBLES O DESAFÍOS
Estructurar sustratos flexibles es un desafío ya que la forma y las distorsiones varían con las fuerzas aplicadas. La litografía sin máscara ofrece la opción única de exponer los sustratos con distorsiones previas dependientes de la deformación, para maximizar el rendimiento.
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