A pesar de su capacidad única para la fabricación tridimensional con tamaños de características mínimos por debajo de 100 nm, lograr un alto rendimiento con la polimerización de dos fotones (TPP) sigue siendo un desafío, en comparación con los sistemas de escritura láser directa establecidos. Para liberar todo el potencial de TPP, proponemos un enfoque novedoso: la integración de técnicas de litografía estándar con litografía multifotónica.

Observe los resultados de nuestra investigación de primera mano en el SPIE Advanced Lithography + Patterning (stand 641). El experto técnico Willi Mantei ofrecerá una charla sobre exposiciones combinadas, y nuestras expertas técnicas Matthias Wahl y Jana Chaaban ofrecerán otras charlas. Encuentre la hora y la ubicación en spie.org: https://lnkd.in/eyesYBax

Aquí se muestran dos matrices de microlentes. Las microlentes de 19×19 y las microlentes invertidas de 14×14 se modelaron con la MPO 100, nuestra herramienta TPP-Multi-User para litografía 3D y microimpresión 3D. El marco que lo rodea se expuso con el alineador sin máscara MLA 150.

Obtenga más información sobre ambas herramientas en info@irida.es
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