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[:es]LÍDER EN FOTOLITOGRAFÍA[:]

[:es] El Maskless Aligner MLA150 lidera el futuro de la fotolitografía: Ya no se necesita una fotomáscara para crear un patrón, sino que simplemente expone su diseño directamente en su oblea recubierta. Cualquier cambio en su patrón se puede acomodar…

Asylum Research quantifies the “last axis” in AFM

[:es] «Oxford Instruments Asylum Research has developed an interferometric displacement sensor (IDS) that provides a direct measure of AFM cantilever displacement.   The IDS interfaces the existing optical system of the Asylum Research Cypher AFM with an external laser Doppler…