ALD Atomic Layer Deposition Systems
El NLD-4000 es un sistema ALD autónomo controlado por PC, totalmente automatizado y con enclavamiento de seguridad, capaz de depositar óxidos y nitruros (por ejemplo, AlN, GaN, TaN, TiN, Al2O3, ZrO2, LaO2, HfO2) para aplicaciones de semiconductores, fotovoltaicas y MEMS. Dispone de una cámara de reacción de aluminio de 13″ con paredes calefactadas y una