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Litografía por electrones

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Vistec SB254

Litografía por haz de electrones de alta precisión

Versatilidad, rendimiento y escalabilidad para la investigación y la industria.

La Vistec SB254 es una herramienta avanzada de litografía por haz de electrones diseñada para ofrecer precisión y eficiencia en aplicaciones tanto de escritura directa como de fabricación de máscaras. Basada en tecnología VSB (Variable Shaped Beam), permite una gran flexibilidad para procesos complejos en el sector de semiconductores, óptica integrada y fotónica.

Aplicaciones clave

Ideal para clientes que requieren rendimiento, fiabilidad y adaptabilidad para una amplia variedad de sectores:

Tecnología innovadora y modular

La Vistec SB254 ofrece una arquitectura modular que permite evolucionar el sistema conforme a las necesidades del cliente. Destaca por su compatibilidad con materiales transparentes y no transparentes, así como por su diseño compacto y su automatización completa para la manipulación de sustratos.

Ventajas clave:

Características principales del Vistec SB254

Este sistema ha sido desarrollado como una evolución de la serie SB250, incorporando funciones avanzadas que garantizan alto rendimiento, precisión y facilidad de operación.

Opciones disponibles

Manipulación totalmente automatizada de diversos tamaños de sustrato, con prealineación

Escritura multipase para mayor fidelidad en patrones complejos

Software MDSP para detección de marcas y medición de campo

Estación de preparación de datos con hasta 256 núcleos de CPU

Correcciones avanzadas: PROXECCO (efecto de proximidad) y corrección de niebla

Interfaz y facilidad de uso

El sistema incluye una GUI moderna y eficiente conforme al estándar SEMI E95, optimizada para su integración en entornos de producción. La preparación de datos y visualización está diseñada para agilizar la operativa diaria.