¿Sabía que?
Con nuestros equipos podemos estructurar fotorresistencias tanto negativas como positivas. Con las fotorresistencias negativas las áreas expuestas se reticulan y permanecen en el sustrato después del paso de revelado. (izquierda) Cuando se utilizan fotorresistencias positivas, las zonas expuestas se eliminan con el paso de revelado. (derecha).
¿Quiere saber más? Lea nuestras preguntas frecuentes aquí:

Multiphoton Optics: 3D Lithography via Two-Photon Polymerization (TP), Prototyping and Engineering, Customized Solutions, Component and Master Level. – Waferscale Optics. – Compatible to Standard Workflows, Support in all Production Phases: From Component to Master Level

Compartir noticia